[实用新型]一种用于无掩模光刻机的真空吸附控制装置有效
| 申请号： | 201821281329.X | 申请日： | 2018-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN208537907U | 公开（公告）日： | 2019-02-22 |
| 发明（设计）人： | 魏云飞 | 申请（专利权）人： | 合肥芯碁微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 | 代理人： | 王丽丽;奚华保 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥市高新区*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种用于无掩模光刻机的真空吸附控制装置，包括真空吸盘、真空发生器及开关电源，所述真空吸盘的上方设置有晶元，真空吸盘通过管路与真空发生器连接，所述管路上设有真空阀门，所述真空阀门的控制管脚通过连接线与开关电源的电源端连接，所述连接线上设置有真空按钮。本实用新型所述的用于无掩模光刻机的真空吸附控制装置，通过按下真空按钮开关，真空阀门打开，晶元被吸附，曝光完成后可按下真空按钮，真空阀门关闭，可取下晶元。吸附时的真空度可通过真空度数显表来读取，并可通过手动调节真空发生器来调节真空度。本实用新型可有效解决因晶元在加工过程中固定不良而造成曝光不良的问题，减少报废率，节约成本。 | ||
| 搜索关键词： | 真空阀门 晶元 无掩模光刻机 本实用新型 真空发生器 控制装置 真空按钮 真空吸附 真空吸盘 连接线 开关电源 按下 吸附 读取 控制管脚 手动调节 有效解决 真空度数 曝光 报废率 电源端 节约 | ||
【主权项】：
1.一种用于无掩模光刻机的真空吸附控制装置，其特征在于：包括真空吸盘（1）、真空发生器（4）及开关电源（5），所述真空吸盘（1）的上方设置有晶元（11），真空吸盘（1）通过管路（7）与真空发生器（4）连接，所述管路（7）上设有真空阀门（3），所述真空阀门（3）的控制管脚通过连接线与开关电源（5）的电源端连接，所述连接线上设置有真空按钮（6）。
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