[实用新型]卷绕式磁控溅射柔性镀膜机有效
| 申请号： | 201821271931.5 | 申请日： | 2018-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN208577778U | 公开（公告）日： | 2019-03-05 |
| 发明（设计）人： | 周兴宝 | 申请（专利权）人： | 东泰高科装备科技（北京）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京维澳专利代理有限公司 11252 | 代理人： | 王立民;周放 |
| 地址： | 102299 北京市昌平*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种卷绕式磁控溅射柔性镀膜机，包括真空腔室(1)，所述真空腔室(1)内设有卷绕机构，柔性基材(2)设于所述卷绕机构上，所述柔性基材(2)通过所述卷绕机构呈折线形方式传输，并形成至少一个镀膜区域(3)，每个所述镀膜区域(3)内均设有一个双磁极式旋转靶材机构(4)。本实用新型能够有效提高镀膜效率，有效降低镀膜设备的体积。 | ||
| 搜索关键词： | 卷绕机构 本实用新型 磁控溅射 镀膜区域 柔性基材 真空腔室 镀膜机 卷绕式 镀膜设备 镀膜效率 旋转靶材 双磁极 折线形 传输 | ||
【主权项】：
1.一种卷绕式磁控溅射柔性镀膜机，包括真空腔室(1)，其特征在于：所述真空腔室(1)内设有卷绕机构，柔性基材(2)设于所述卷绕机构上，所述柔性基材(2)通过所述卷绕机构呈折线形方式传输，并形成至少一个镀膜区域(3)，每个所述镀膜区域(3)内均设有一个双磁极式旋转靶材机构(4)。
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