[实用新型]卷绕式磁控溅射柔性镀膜机

说明书

本实用新型公开了一种卷绕式磁控溅射柔性镀膜机，包括真空腔室(1)，所述真空腔室(1)内设有卷绕机构，柔性基材(2)设于所述卷绕机构上，所述柔性基材(2)通过所述卷绕机构呈折线形方式传输，并形成至少一个镀膜区域(3)，每个所述镀膜区域(3)内均设有一个双磁极式旋转靶材机构(4)。本实用新型能够有效提高镀膜效率，有效降低镀膜设备的体积。

技术领域

本实用新型涉及一种镀膜机，特别是一种卷绕式磁控溅射柔性镀膜机，属于磁控溅射镀膜技术领域。

背景技术

溅射技术属于PVD(物理气相沉积)技术的一种，是制备薄膜材料的重要方法之一。它是利用带电荷的粒子在电场中加速后具有一定动能的特点，将离子引向欲被溅射的物质制成的靶电极(阴极)，并将靶材原子溅射出来使其沿着一定的方向运动到衬底并最终在衬底上沉积成膜的方法。磁控溅射是把磁控原理与普通溅射技术相结合利用磁场的特殊分布控制电场中的电子运动轨迹，以此改进溅射的工艺，使得镀膜厚度及均匀性可控，且制备的薄膜致密性好、粘结力强及纯净度高。磁控溅射技术已经成为制备各种功能薄膜的重要手段。

近年来柔性基材热蒸发镀膜工艺有了新的应用，包括镀制光学膜，催化膜，高阻隔膜等新型功能膜，热蒸发连续镀膜机具有生产效率高的特点，但是膜层均匀性差，结构相对简单。随着现代工业技术、包装领域和光学技术的发展，对于柔性基材的镀膜需求越来越大，功能性要求越来越高，膜系结构越来越复杂。磁控溅射卷绕镀膜机获得了巨大的发展，磁控溅射技术是实现柔性基材表面功能化的有效手段，其具有可镀膜原材料广，镀膜幅宽均匀度高，容易镀制多层复合膜系和膜层厚度精度高等优点。但是现有技术中，磁控溅射由于真空卷绕镀膜的特点，容易造成基材起皱，微观划伤和表面变形等问题。基材在镀膜过程中由于与镀膜鼓贴合不理想或基材在进入与镀膜鼓表面贴合状态时基材有斜纹产生，由于膜层沉积热量和等离子体的烘烤，容易造成基材受热褶皱。由于磁控溅射卷绕镀膜机采用多电机系统，当速度不匹配时，容易造成基材表面划伤。磁控溅射卷绕镀膜机在抽真空过程中，有些镀膜碎片会落到镀膜鼓面，造成基材与镀膜鼓表面局部点分离，镀膜过程中造成基材局部顶起点受热变形等一系列问题。此外，现有磁控溅射镀膜设备多采用平面镀膜技术，镀膜效率较低，而且靶材浪费严重。而且现有磁控镀膜设备功能单一，仅能实现单独生产金属膜层或单独生产非金属膜层。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种卷绕式磁控溅射柔性镀膜机，以解决现有技术中的技术问题，它能够有效提高镀膜效率，有效降低镀膜设备体积。

本实用新型提供了一种卷绕式磁控溅射柔性镀膜机，包括真空腔室，所述真空腔室内设有卷绕机构，柔性基材设于所述卷绕机构上，所述柔性基材通过所述卷绕机构呈折线形方式传输，并形成至少一个镀膜区域，每个所述镀膜区域内均设有一个双磁极式旋转靶材机构。

前述的卷绕式磁控溅射柔性镀膜机中，优选地，所述卷绕机构包括第一导辊和第二导辊，所述第一导辊沿所述真空腔室的长度方向等间距布置，任意相邻两个所述第一导辊的轴线的连接线的中线上均设有一个所述第二导辊，当所述第二导辊为两个或两个以上时，所有所述第二导辊的轴线位于第一平面内，所有所述第一导辊的轴线位于第二平面内，所述第一平面与所述第二平面平行。

前述的卷绕式磁控溅射柔性镀膜机中，优选地，所述第一导辊为水冷导辊。

前述的卷绕式磁控溅射柔性镀膜机中，优选地，所述第二导辊为喷气导辊，包括辊体，所述辊体固定设置在所述真空腔室内，所述辊体具有沿轴向设置的进气腔，所述辊体朝向所述柔性基材的区域均布有喷气孔，所述喷气孔均与所述进气腔连通，所述进气腔通过气管与气源连接。