[实用新型]镀膜装置及镀膜设备有效
| 申请号： | 201821160300.6 | 申请日： | 2018-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN208632628U | 公开（公告）日： | 2019-03-22 |
| 发明（设计）人： | 柯荣峰 | 申请（专利权）人： | 张家港康得新光电材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C16/46 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 张栋栋 |
| 地址： | 215634 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种镀膜装置及镀膜设备，涉及镀膜技术领域，为解决基材在镀膜过程中，由于镀膜构件与周围环境之间存在热传递，热量由镀膜构件传递至镀膜基材的过程中，会出现热量损失，从而使镀膜基材的温度达不到镀膜工艺所要求温度的技术问题。涉及一种镀膜装置，包括：能够产生热量的镀膜构件和用于吸收部分热量损失的盖体；镀膜构件和盖体之间设有用于待镀膜基材进入的空间。还涉及一种镀膜设备，包括：上述的镀膜装置。该镀膜装置及镀膜设备能够减少热量的损失，从而使镀膜基材能够达到工艺所要求的温度，提高成膜质量。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜装置 镀膜设备 镀膜 镀膜基材 热量损失 盖体 本实用新型 待镀膜基材 镀膜工艺 镀膜过程 镀膜技术 构件传递 热传递 成膜 基材 吸收 | ||
【主权项】：
1.一种镀膜装置，其特征在于，包括：能够产生热量的镀膜构件(100)和用于吸收部分热量损失的盖体(200)；所述镀膜构件(100)和所述盖体(200)之间设有用于待镀膜基材进入的空间。
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