[实用新型]镀膜装置及镀膜设备

说明书

本实用新型提供了一种镀膜装置及镀膜设备，涉及镀膜技术领域，为解决基材在镀膜过程中，由于镀膜构件与周围环境之间存在热传递，热量由镀膜构件传递至镀膜基材的过程中，会出现热量损失，从而使镀膜基材的温度达不到镀膜工艺所要求温度的技术问题。涉及一种镀膜装置，包括：能够产生热量的镀膜构件和用于吸收部分热量损失的盖体；镀膜构件和盖体之间设有用于待镀膜基材进入的空间。还涉及一种镀膜设备，包括：上述的镀膜装置。该镀膜装置及镀膜设备能够减少热量的损失，从而使镀膜基材能够达到工艺所要求的温度，提高成膜质量。

技术领域

本实用新型涉及镀膜技术领域，尤其是涉及一种镀膜装置及镀膜设备。

背景技术

随着科技的进步和市场(包装、光学等领域)的需求，对于柔性基材的镀膜需求越来越大，功能性要求也越来越高，相应的镀膜技术也得到了迅猛发展。

基材在镀膜过程中，需要对镀膜基材进行加热，该热量主要由镀膜构件提供。然而，在上述的镀膜环境中，由于镀膜构件与周围环境之间存在热传递(热传导、热辐射及热对流)，因而，热量由镀膜构件传递至镀膜基材的过程中，会出现热量损失，使镀膜基材的温度达不到镀膜工艺所要求的温度，从而导致产品的质量下降，该加工出的产品可能不能满足后续使用的需求。

实用新型内容

本实用新型的第一目的在于提供一种镀膜装置，为解决基材在镀膜过程中，由于镀膜构件与周围环境之间存在热传递，热量由镀膜构件传递至镀膜基材的过程中，会出现热量损失，从而使镀膜基材的温度达不到镀膜工艺所要求温度的技术问题。

本实用新型提供的镀膜装置，包括：能够产生热量的镀膜构件和用于吸收部分热量损失的盖体；所述镀膜构件和所述盖体之间设有用于待镀膜基材进入的空间。

进一步地，所述盖体采用与所述镀膜构件相适配的结构。

进一步地，所述镀膜构件采用呈圆柱状结构的镀膜鼓，所述盖体为与柱状面相适配的弧形结构。

进一步地，所述镀膜构件和所述盖体均采用平板状结构。

或者是，所述镀膜构件和所述盖体均采用弧形结构。

进一步地，所述盖体远离所述镀膜构件的一侧设有加强结构。

进一步地，所述镀膜构件和所述盖体之间的最小间距大于待镀膜基材的厚度。

进一步地，所述盖体由金属制成。

进一步地，该镀膜装置还包括固定件，所述固定件包括连接部，所述盖体连接在所述连接部上，且所述盖体能够相对所述镀膜构件打开或滑动。

进一步地，所述盖体与所述连接部铰接，使所述盖体相对所述镀膜构件转动，且相对所述镀膜构件打开。

或者是，所述盖体与所述连接部滑动连接，使所述盖体相对所述镀膜构件滑动。

本实用新型提供的镀膜装置的有益效果：

在该镀膜装置中，增设了盖体，且在镀膜构件和盖体之间设置了用于待镀膜基材进入的空间，在使用时，镀膜基材位于镀膜构件和盖体之间。

在实际工作过程中，镀膜构件能够产生热量，由于镀膜构件与内部环境之间存在温度差，镀膜构件将会与内部环境之间发生热传递，因而镀膜构件产生的大部分热量将会传递给镀膜基材，从而实现对镀膜基材的加热，由于盖体的设置，盖体能够吸收部分热量损失，形成温度保护层，从而使镀膜构件和盖体之间的温度(或镀膜基材的温度)维持在镀膜基材工艺所要求的温度范围之内。

由以上可知，由于盖体的存在，该镀膜装置能够相应地减少热量传递至外部环境中，以减少热量的浪费，以提高镀膜前的预热效果，从而尽可能地使镀膜基材达到工艺所要求的温度，保证镀膜产品的质量。