[实用新型]基板处理装置有效

专利信息
申请号: 201821008823.9 申请日: 2018-06-28
公开(公告)号: CN208767260U 公开(公告)日: 2019-04-19
发明(设计)人: 申寅澈 申请(专利权)人: 凯斯科技股份有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 北京冠和权律师事务所 11399 代理人: 朱健;张国香
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 实用新型的目的在于提供一种基板处理装置及基板处理方法,基板处理装置防止包含一定浓度以上的异物的工艺流体流入用于执行基板处理工艺的腔室,并且利用纯度高的工艺流体来进行基板处理工艺。为了实现所述目的,本实用新型的基板处理装置包括:供给线路,其向收容基板的腔室供给工艺流体;纯度测量部,其连接于所述供给线路,并测量所述工艺流体的纯度。
搜索关键词: 基板处理装置 工艺流体 基板处理 本实用新型 供给线路 腔室 纯度测量 收容基板 异物 测量
【主权项】:
1.一种基板处理装置,其特征在于,其包括:供给线路,其用于向收容基板的腔室供给工艺流体;纯度测量部,其连接于所述供给线路,并测量所述工艺流体的纯度;分析线路,其从所述供给线路分支出来,并且所述工艺流体的一部分在分析线路上流动,压力调整部和所述纯度测量部设置于所述分析线路,所述纯度测量部对通过所述压力调整部得到减压的所述工艺流体的异物含量进行测量;控制部,其连接于所述纯度测量部,将设定的异物限制设定量和所述纯度测量部测量出的所述异物含量相比较来判断是否中断所述工艺流体的供给;所述供给线路上还设置有供给调整部,供给调整部控制所述工艺流体的供给,基板处理装置包括控制部,控制部与所述供给调整部连接,对所述工艺流体的供给进行控制。
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