[实用新型]一种适用于小扰动环境的摄影测量系统有效
申请号: | 201820908646.3 | 申请日: | 2018-06-12 |
公开(公告)号: | CN208313292U | 公开(公告)日: | 2019-01-01 |
发明(设计)人: | 李传荣;苏国中;张丹丹;黎荆梅;李伟;马灵玲;钱永刚;朱家佳;窦帅;汪琪;刘耀开 | 申请(专利权)人: | 中国科学院光电研究院 |
主分类号: | G01C11/00 | 分类号: | G01C11/00;G01C1/00;G01B7/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 李坤 |
地址: | 100094*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种适用于小扰动环境的摄影测量系统,包括:飞行平台、以及搭载于飞行平台的:主光学成像分系统和置于主光学成像分系统两侧一定基线距离的副光学成像分系统,用于采集视场范围内的序列影像并提供大基高比影像数据;双天线位置姿态测量分系统,用于测量摄站的位置与姿态信息;同步控制单元,用于控制主光学成像分系统和副光学成像分系统同步成像,以及主光学成像分系统和副光学成像分系统与双天线位置姿态测量分系统在同一时间基准下工作。 | ||
搜索关键词: | 光学成像分系统 摄影测量系统 位置姿态测量 飞行平台 双天线 小扰动 同步控制单元 本实用新型 基线距离 时间基准 同步成像 序列影像 影像数据 姿态信息 基高比 视场 测量 采集 | ||
【主权项】:
1.一种适用于小扰动环境的摄影测量系统,其特征在于,包括:飞行平台、以及搭载于所述飞行平台的:主光学成像分系统和置于主光学成像分系统两侧一定基线距离的副光学成像分系统,用于采集视场范围内的序列影像并提供大基高比影像数据;双天线位置姿态测量分系统,用于测量摄站的位置与姿态信息;同步控制单元,用于控制所述主光学成像分系统、副光学成像分系统和双天线位置姿态测量分系统同步成像,并保证三者在同一时间基准下工作。
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