[实用新型]一种适用于单晶金刚石片的高平行度双面抛光处理的装置

摘要

本实用新型公开了一种适用于单晶金刚石片的高平行度双面抛光处理的装置，包括机架、驱动机构、夹紧机构和调节机构，所述机架的内侧安装有电动机，所述驱动机构中的固定套和电动机相连，且固定套和下抛光盘固定连接，所述夹紧机构位于下抛光盘的上方，且夹紧机构和安装板相互连接，并且安装板的两端固定在导轨杆上，所述导轨杆的底端和顶端分别与机架和装置盒相互连接，且装置盒上安装有液压缸，所述调节机构中的升降盘和液压缸相互连接，且调节机构和上抛光盘相互连接。该适用于单晶金刚石片的高平行度双面抛光处理的装置，能对单晶金刚石片的双面同时进行抛光，双面平行度大大提高，保证了单晶金刚石片的双面抛光处理质量。

主权项

1.一种适用于单晶金刚石片的高平行度双面抛光处理的装置，包括机架(1)、驱动机构(3)、夹紧机构(6)和调节机构(11)，其特征在于：所述机架(1)的内侧安装有电动机(2)，所述驱动机构(3)中的固定套(31)和电动机(2)相连，且固定套(31)和下抛光盘(4)固定连接，并且下抛光盘(4)的上端面放置有单晶金刚石片(5)，所述夹紧机构(6)位于下抛光盘(4)的上方，且夹紧机构(6)和安装板(7)相互连接，并且安装板(7)的两端固定在导轨杆(8)上，所述导轨杆(8)的底端和顶端分别与机架(1)和装置盒(9)相互连接，且装置盒(9)上安装有液压缸(10)，所述调节机构(11)中的升降盘(111)和液压缸(10)相互连接，且调节机构(11)和上抛光盘(12)相互连接。