[实用新型]一种适用于单晶金刚石片的高平行度双面抛光处理的装置

说明书

本实用新型公开了一种适用于单晶金刚石片的高平行度双面抛光处理的装置，包括机架、驱动机构、夹紧机构和调节机构，所述机架的内侧安装有电动机，所述驱动机构中的固定套和电动机相连，且固定套和下抛光盘固定连接，所述夹紧机构位于下抛光盘的上方，且夹紧机构和安装板相互连接，并且安装板的两端固定在导轨杆上，所述导轨杆的底端和顶端分别与机架和装置盒相互连接，且装置盒上安装有液压缸，所述调节机构中的升降盘和液压缸相互连接，且调节机构和上抛光盘相互连接。该适用于单晶金刚石片的高平行度双面抛光处理的装置，能对单晶金刚石片的双面同时进行抛光，双面平行度大大提高，保证了单晶金刚石片的双面抛光处理质量。

技术领域

本实用新型涉及单晶金刚石技术领域，具体为一种适用于单晶金刚石片的高平行度双面抛光处理的装置。

背景技术

单晶金刚石具有众多优异的物理化学性能，如耐酸碱腐蚀、高热导率、高硬度等，尤其是具有优异的光学性能，从紫外线到远红外线整个波段都具有很高的透射率，众多优异性能集合于一身的单晶金刚石是最理想的窗口材料，尤其适用于用作高功率激光发射器窗口、光学透射窗口等。

单晶金刚石片在使用之前，需要对其进行双面抛光操作，但是现有常规抛光方法是一个面抛光完成后再抛光另一个面，这种抛光方法单晶金刚石片的边缘最大厚度差较大，光路垂直度不够高，对光线的折射损耗较大，尤其是在用作高功率激光发射窗口时，窗口的双面平行度不够高会直接影响激光的发射性能。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种适用于单晶金刚石片的高平行度双面抛光处理的装置，以解决上述背景技术中提出的单晶金刚石片的边缘最大厚度差较大，光路垂直度不够高，对光线的折射损耗较大，尤其是在用作高功率激光发射窗口时，窗口的双面平行度不够高会直接影响激光的发射性能问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种适用于单晶金刚石片的高平行度双面抛光处理的装置，包括机架、驱动机构、夹紧机构和调节机构，所述机架的内侧安装有电动机，所述驱动机构中的固定套和电动机相连，且固定套和下抛光盘固定连接，并且下抛光盘的上端面放置有单晶金刚石片，所述夹紧机构位于下抛光盘的上方，且夹紧机构和安装板相互连接，并且安装板的两端固定在导轨杆上，所述导轨杆的底端和顶端分别与机架和装置盒相互连接，且装置盒上安装有液压缸，所述调节机构中的升降盘和液压缸相互连接，且调节机构和上抛光盘相互连接。

优选的，所述驱动机构包含有固定套和卡柱，且固定套和卡柱为上下对应分布。

优选的，所述固定套的内侧开有凹槽，卡柱的外表面设置有垂直分布的凸起，且该凸起与凹槽相吻合，并且卡柱垂直固定在上抛光盘的下端面中心处。

优选的，所述夹紧机构包含有卡合板、第一连接架、气缸和第二连接架，且气缸和第二连接架分别固定在2个安装板上。

优选的，所述卡合板在水平方向上位于单晶金刚石片的中心处，且2组卡合板分别与第二连接架和连接有气缸的第一连接架相连接。

优选的，所述调节机构包含有升降盘和竖轴，且升降盘和安装在上抛光盘上端中心处的竖轴固定连接。

优选的，所述升降盘的拐角处和导轨杆滑动连接，升降盘和上抛光盘平行分布，且上抛光盘和竖轴组成转动机构。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该适用于单晶金刚石片的高平行度双面抛光处理的装置，能对单晶金刚石片的双面同时进行抛光，双面平行度大大提高，保证了金刚石片的加工质量；

1.驱动结构的使用，确保了该装置可使用一个电动机同时带动两个抛光盘进行转动，抛光盘同轴转动可以确保两个抛光盘的相对平行度；

2.夹紧机构的设计，可确保单晶金刚石片能在抛光盘之间保持相对稳定的位置，确保了双面抛光的质量，不会出现抛光过程中单晶金刚石片掉落的问题；