[实用新型]掩膜框架、掩膜设备有效
| 申请号： | 201820833784.X | 申请日： | 2018-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN208201092U | 公开（公告）日： | 2018-12-07 |
| 发明（设计）人： | 吴建鹏;嵇凤丽;叶建波 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;张天舒 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种掩膜框架、掩膜设备，属于显示技术领域。本实用新型的掩膜框架具有主体结构，所述主体结构的第一侧面设置有摩擦结构，所述摩擦结构用于增加所述掩膜框架与用于承载所述掩膜框架的掩膜基台之间的摩擦力。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜 本实用新型 摩擦结构 掩膜设备 主体结构 侧面设置 基台 承载 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜框架，其特征在于，具有主体结构，所述主体结构的第一侧面设置有摩擦结构，所述摩擦结构用于增加所述掩膜框架与用于承载所述掩膜框架的掩膜基台之间的摩擦力。
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