[实用新型]掩膜框架、掩膜设备

说明书

本实用新型提供一种掩膜框架、掩膜设备，属于显示技术领域。本实用新型的掩膜框架具有主体结构，所述主体结构的第一侧面设置有摩擦结构，所述摩擦结构用于增加所述掩膜框架与用于承载所述掩膜框架的掩膜基台之间的摩擦力。

技术领域

本实用新型属于显示技术领域，具体涉及一种掩膜框架、掩膜设备。

背景技术

在采用真空蒸镀的方式制备显示屏时，首先需要将焊接在掩膜框架上的掩膜板与玻璃基板进行对准，也即将掩膜板上的多个开孔与玻璃基板上的多个像素位置进行对准，以使有机发光材料通过与其对应的开孔蒸镀到玻璃基板上的特定像素位置处，以在玻璃基板上形成多个OLED器件，以使由该玻璃基板所制成的显示屏可以正常显示。

目前，真空蒸镀工艺主要是在蒸镀腔室中完成的，该蒸镀腔室具有较高的温度、压力、磁场，这些因素均会导致掩膜框架、掩膜板在蒸镀过程中发生形变，从而使得预先对准的掩膜板上的多个开孔与玻璃基板上的多个像素位置发生相对移动，此时，有机发光材料将无法通过与其对应的开孔精准蒸镀至玻璃基板上的特定像素位置处，降低蒸镀后的玻璃基板上的各个像素的位置精度。

为解决上述问题，现有技术中，掩膜板在进入蒸镀腔室前需要进行张网处理，也即在将掩膜板焊接到掩膜框架上之前，会对掩膜板的四周施加拉力，以使掩膜板处于紧绷的状态，以此来防止掩膜板在受到高温作用时发生变形，此时，再将处于紧绷状态的掩膜板焊接至掩膜框架上，如图1所示，由于掩膜框架的四个横梁均受到焊接在其上的掩膜板4的拉力作用，该四个横梁会向内发生弯曲，待四个横梁不再向内弯曲时，掩膜板4施加给与其连接的横梁的拉力将等于该横梁自身的回复力。此时，再将焊接有掩膜板4的掩膜框架放置在蒸镀腔室中，以进行掩膜板4的多个开孔与玻璃基板上的多个像素位置进行对准等步骤。

然而，对掩膜板4进行张网处理后，虽然掩膜板4自身不会再发生形变，但是，与该掩膜板4连接的掩膜框架仍会受高温作用而发生膨胀，也就是说，在蒸镀的过程中，横梁自身的回复力会变大，而掩膜板4施加给与其连接的横梁的拉力是恒定不变的，此时，横梁自身的回复力大于掩膜板4施加给该横梁的拉力，掩膜框架的四个横梁分别会如图2所示的向外发生移动，很明显的，焊接在掩膜框架上的掩膜板4也会发生形变，从而使得掩膜板4上的多个开孔位置发生变化，此时，预先对准的掩膜板4上的多个开孔与玻璃基板上的多个像素位置发生相对移动，使得有机发光材料将无法通过与其对应的开孔精准蒸镀至玻璃基板上的特定像素位置处，降低蒸镀后的玻璃基板上的各个像素的位置精度。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提供一种提高蒸镀的像素位置精度的掩膜框架、掩膜设备。

解决本实用新型技术问题所采用的技术方案是一种掩膜框架，具有主体结构，所述主体结构的第一侧面设置有摩擦结构，所述摩擦结构用于增加所述掩膜框架与用于承载所述掩膜框架的掩膜基台之间的摩擦力。

优选的是，所述主体结构的第一侧面上具有粗糙结构，所述粗糙结构用作所述摩擦结构。

优选的是，所述粗糙结构的摩擦系数为0.6。

优选的是，所述摩擦结构为凸起结构。

优选的是，所述摩擦结构与所述主体结构为一体成型结构。

解决本实用新型技术问题所采用的技术方案是一种掩膜设备，包括上述的掩膜框架，以及与所述掩膜框架连接的掩膜板。

优选的是，所述掩膜设备还包括：

掩膜基台，用于承载所述掩膜框架；

所述掩膜基台上依次设置有所述掩膜框架、蒸镀基板，所述掩膜框架的第一侧面靠近所述掩膜基台；

所述掩膜基台背离所述掩膜框架的一侧还设置有蒸镀源。

优选的是，所述蒸镀源为热隔绝装置。