[实用新型]一种基于DMD技术的可视化曝光机

摘要

本实用新型公开了一种基于DMD技术的可视化曝光机，包括曝光机光源、对准光源、45度二向光学元件、整形匀光元件、全反射棱镜组、DMD、45度分光元件、投影系统、待曝光工件和相机。对准光源和曝光机光源发出的光经45度二向光学元件、整形匀光元件的整形和匀光、以及全反射棱镜组后入射到DMD上，经DMD反射、全反射棱镜组和45度分光元件进入投影系统再投射到待曝光工件。对准光源的光入射到待曝光工件，实现曝光精确定位；曝光机光源入射到待曝光工件使待曝光工件形成曝光，其中一部分光被待曝光工件反射，经投影系统后被45度分光元件反射到相机，可实时观测待曝光工件并实现对准及套刻。

主权项

1.一种基于DMD技术的可视化曝光机，其特征在于，包括曝光机光源（1）、对准光源（2）、45度二向光学元件（3）、整形匀光元件（4）、全反射棱镜组（5）、DMD（6）、45度分光元件（7）、投影系统（8）、待曝光工件（9）和相机（10）；其中，对准光源（2）经45度二向光学元件（3）反射，曝光机光源（1）发出的光透过45度二向光学元件（3），经整形匀光元件（4）的整形和匀光，将光场变为能量均匀分布，且光斑大小与DMD相匹配的光斑，再经过全反射棱镜组（5）后入射到DMD（6）上，DMD在关断状态下，DMD上的图案经全反射棱镜组（5）传输后，不会经过45度分光元件（7）和投影系统（8）；DMD在开状态下，DMD上的图案经全反射棱镜组（5）后，通过45度分光元件（7）进入投影系统（8）再将目标曝光图形投射到待曝光工件（9），使待曝光工件（9）形成曝光；无论对准光源（2）通过光路系统是否投射对准图形或目标曝光图形时，曝光机光源（1）均可通过光路系统对待曝光工件（9）进行曝光，进而实现精准的部分视场或全视场曝光图案套刻；曝光机光源入射到待曝光工件的一部分光被待曝光工件反射，经投影系统后被45度分光元件反射到相机，可实时观测待曝光工件；为缩小曝光机整体体积，所述曝光机在光路上任意位置加入一个或多个反射镜或棱镜，对光路进行折叠。