[实用新型]一种基于DMD技术的可视化曝光机

权利要求书

1.一种基于DMD技术的可视化曝光机，其特征在于，包括曝光机光源（1）、对准光源（2）、45度二向光学元件（3）、整形匀光元件（4）、全反射棱镜组（5）、DMD（6）、45度分光元件（7）、投影系统（8）、待曝光工件（9）和相机（10）；

其中，对准光源（2）经45度二向光学元件（3）反射，曝光机光源（1）发出的光透过45度二向光学元件（3），经整形匀光元件（4）的整形和匀光，将光场变为能量均匀分布，且光斑大小与DMD相匹配的光斑，再经过全反射棱镜组（5）后入射到DMD（6）上，DMD在关断状态下，DMD上的图案经全反射棱镜组（5）传输后，不会经过45度分光元件（7）和投影系统（8）；DMD在开状态下，DMD上的图案经全反射棱镜组（5）后，通过45度分光元件（7）进入投影系统（8）再将目标曝光图形投射到待曝光工件（9），使待曝光工件（9）形成曝光；无论对准光源（2）通过光路系统是否投射对准图形或目标曝光图形时，曝光机光源（1）均可通过光路系统对待曝光工件（9）进行曝光，进而实现精准的部分视场或全视场曝光图案套刻；曝光机光源入射到待曝光工件的一部分光被待曝光工件反射，经投影系统后被45度分光元件反射到相机，可实时观测待曝光工件；为缩小曝光机整体体积，所述曝光机在光路上任意位置加入一个或多个反射镜或棱镜，对光路进行折叠。

2.根据权利要求1所述的一种基于DMD技术的可视化曝光机，其特征在于，所述曝光机光源（1）的波长范围为350~470nm。

3.根据权利要求1所述的一种基于DMD技术的可视化曝光机，其特征在于，所述对准光源（2）的工作波长在曝光机所选定的波长之外，对准光源（2）的光通过光路系统最终入射到待曝光工件（9）表面并形成所需的对准图形或目标曝光图案，进而实现曝光精确定位。

4.根据权利要求1所述的一种基于DMD技术的可视化曝光机，其特征在于，所述45度二向光学元件（3）包含45度二向色镜、45度合色棱镜，可将曝光机光源（1）与对准光源（2）合光耦合进入光路的元件；可采用对曝光机光源（1）的波段具有高透过率，对对准光源（2）的工作波段具有高反射率的二向光学元件，最终确保曝光机光源（1）透过45度二向光学元件（3）进入光路，对准光源（2）通过45度二向光学元件（3）反射进入光路；也可采用对曝光机光源（1）的波段具有高反射率，对对准光源（2）的工作波段具有高透过率的二向光学元件，最终确保曝光机光源（1）通过45度二向光学元件（3）反射进入光路，对准光源（2）透过45度二向光学元件（3）进入光路。

5.根据权利要求1所述的一种基于DMD技术的可视化曝光机，其特征在于，所述整形匀光元件（4）对曝光机光源（1）发出的光进行匀光，将光场变为能量均匀分布，且光斑大小与DMD（6）相匹配的光斑，可以是积分棒，也可以是透镜阵列。

6.根据权利要求1所述的一种基于DMD技术的可视化曝光机，其特征在于，所述全反射棱镜组（5）由棱镜一（51）及棱镜二（52）两块棱镜组成，光源发出的光经棱镜一（51）后，发生全反射后，投射到DMD（6）上，DMD（6）处于开状态时，反射光经棱镜一（51）后，进入棱镜二（52）并进入投影系统（8），DMD（6）处于断开状态时，反射光经棱镜一（51）后的角度发生偏转，不能进入后继的投影系统（8）；或者光源发出的光经棱镜一（51）和棱镜二（52）后，投射到DMD（6）上，DMD（6）处于开状态时，反射光经棱镜二（52）后发生全反射，并进入投影系统（8）；DMD（6）处于断开状态时，反射光经棱镜二（52）后的角度发生偏转，不能进入后继的投影系统（8）。