[实用新型]一种磁控溅射连续镀膜设备有效
| 申请号： | 201820643134.9 | 申请日： | 2018-05-02 |
| 公开（公告）号： | CN208917290U | 公开（公告）日： | 2019-05-31 |
| 发明（设计）人： | 金晨;韩彬;李建银 | 申请（专利权）人： | 北京七星华创集成电路装备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 101312 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型为一种磁控溅射连续镀膜设备，用于在钕铁硼磁体表面制备铽薄膜，所述磁控溅射连续镀膜设备包括进料装置、传送装置、镀膜装置、降温腔室以及出料装置；其中，所述降温腔室用于对所述镀膜装置镀膜后的工件进行降温；所述传送装置用于带动工件按照工艺路径移动。本申请的磁控溅射连续镀膜设备不仅制备的铽薄膜质量有很大提升，而且满足企业批量性生产的需求，提高了镀膜的生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 连续镀膜设备 磁控溅射 传送装置 镀膜装置 降温腔 镀膜 薄膜 本实用新型 钕铁硼磁体 表面制备 出料装置 工艺路径 进料装置 生产效率 批量性 制备 移动 申请 生产 | ||
【主权项】：
1.一种磁控溅射连续镀膜设备，用于在钕铁硼磁体表面制备铽薄膜，其特征在于，所述磁控溅射连续镀膜设备包括进料装置、传送装置、镀膜装置、降温腔室以及出料装置，所述进料装置、所述镀膜装置、所述降温腔室以及所述出料装置按照工艺路径呈流水线型依次设置；其中，所述进料装置用于工件的进料以及使工件所处的环境从大气环境转变为符合工艺要求的真空环境；所述镀膜装置用于对处于真空环境下的工件进行磁控溅射连续镀膜；所述降温腔室用于对所述镀膜装置镀膜后的工件进行降温；所述传送装置用于带动工件按照所述工艺路径移动。
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