[实用新型]一种磁控溅射连续镀膜设备

说明书

本实用新型为一种磁控溅射连续镀膜设备，用于在钕铁硼磁体表面制备铽薄膜，所述磁控溅射连续镀膜设备包括进料装置、传送装置、镀膜装置、降温腔室以及出料装置；其中，所述降温腔室用于对所述镀膜装置镀膜后的工件进行降温；所述传送装置用于带动工件按照工艺路径移动。本申请的磁控溅射连续镀膜设备不仅制备的铽薄膜质量有很大提升，而且满足企业批量性生产的需求，提高了镀膜的生产效率。

技术领域

本实用新型涉及连续镀膜领域，尤其涉及一种用于在钕铁硼磁体表面制备铽薄膜的磁控溅射连续镀膜设备。

背景技术

在烧结型钕铁硼磁体表面制备一层重稀土元素铽薄膜，可以进一步提高钕铁硼稀土永磁材料的性能。目前对于钕铁硼磁钢半成品的表面处理主要采用人工涂覆铽粉的方式。这种方式对于涂覆膜层的厚度控制、表面涂覆均匀性、膜层的密度、涂覆层表面附着力等工艺要求很难控制，不仅浪费稀土铽原料，且涂覆技术不能够用于实际生产中，不能满足生产型企业的大批量生产的要求。

虽然已经有采用磁控溅射进行镀膜的技术，但是针对采用磁控溅射在钕铁硼磁性材料基体的表面形成铽薄膜，还没有解决如何实现批量生产的问题，只能适用于实验性生产，不能保证批量生产和均匀性控制薄膜的纯度。

公开于本实用新型背景技术部分的信息仅仅旨在加深对本实用新型总体背景技术的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域技术人员所公知的现有技术。

实用新型内容

本实用新型的目的在于至少解决上述技术问题之一，为此本实用新型提供一种磁控溅射连续镀膜设备，不仅制备的铽薄膜质量有很大提升，而且满足企业批量性生产的需求，提高了镀膜的生产效率。

本实用新型的目的是这样实现的：一种磁控溅射连续镀膜设备，用于在钕铁硼磁体表面制备铽薄膜，所述磁控溅射连续镀膜设备包括进料装置、传送装置、镀膜装置、降温腔室以及出料装置；

其中，所述降温腔室用于对所述镀膜装置镀膜后的工件进行降温；所述传送装置用于带动工件按照工艺路径移动。

在本实用新型的一较佳实施方案中，所述降温腔室的内部空间设置有风机和换热器；

所述换热器用于对流经该换热器的热气体进行冷却，形成冷气体；

所述风机用于使所述冷气体流经所述工件，所述冷气体对所述工件进行降温后形成所述热气体。

在本实用新型的一较佳实施方案中，所述降温腔室的内部空间还设置有导流部件；

所述导流部件用于在所述降温腔室内部空间形成气体流动的循环路径；

所述风机和所述换热器均设置在所述循环路径上，用于使所述冷气体和所述热气体沿着所述循环路径在所述降温腔室内部循环流动。

在本实用新型的一较佳实施方案中，所述进料装置、所述镀膜装置、所述降温腔室以及所述出料装置按照工艺路径呈流水线型依次设置；所述传送装置包括：

料盘，用于盛放工件；

传送轮，沿着所述工艺路径依次间隔设置，用于支撑并带动所述料盘沿所述工艺路径持续移动；和

传送驱动装置，用于驱动所述传送轮转动。

在本实用新型的一较佳实施方案中，所述镀膜装置包括多阴极连续镀膜腔室，所述多阴极连续镀膜腔室包括多个阴极组件和至少一个冷却组件，所述阴极组件和所述冷却组件沿着所述工艺路径在工件的上方依次交替设置；所述传送装置带动工件沿所述工艺路径在所述多阴极连续镀膜腔室内移动，以对所述工件交替进行溅射和冷却。

在本实用新型的一较佳实施方案中，所述进料装置包括按照工艺路径依次设置的进料台和进样室；