[实用新型]一种用于纳米多孔SEBS薄膜的复合结构和模板有效
申请号: | 201820643028.0 | 申请日: | 2018-05-02 |
公开(公告)号: | CN208454863U | 公开(公告)日: | 2019-02-01 |
发明(设计)人: | 张旻;常诚谊 | 申请(专利权)人: | 清华大学深圳研究生院 |
主分类号: | C08J9/26 | 分类号: | C08J9/26;C08J5/18;C25D11/34;C08L53/02 |
代理公司: | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人: | 王震宇 |
地址: | 518055 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种用于制备纳米多孔SEBS薄膜的复合结构,包括铜箔和覆盖在所述铜箔的表面上的一层SEBS薄膜,所述铜箔的表面具有一层氢氧化铜纳米线阵列,所述氢氧化铜纳米线阵列中的各个纳米线被紧密包裹于所述SEBS薄膜中,形成由所述氢氧化铜纳米线阵列中的各个纳米线填充所述SEBS薄膜上对应的纳米孔的结构。一种用于制备纳米多孔SEBS薄膜的模板,包括铜箔,所述铜箔的表面具有一层氢氧化铜纳米线阵列。利用本实用新型的复合结构和模板,制备纳米多孔SEBS薄膜简单易行,成本低廉,孔径可控性好,可实现大面积纳米多孔SEBS薄膜的制备。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 纳米多孔 铜箔 纳米线阵列 氢氧化铜 制备 复合结构 纳米线 本实用新型 紧密包裹 可控性 纳米孔 填充 覆盖 | ||
【主权项】:
1.一种用于制备纳米多孔SEBS薄膜的复合结构,其特征在于,包括铜箔和覆盖在所述铜箔的表面上的一层SEBS薄膜,所述铜箔的表面具有一层氢氧化铜纳米线阵列,所述氢氧化铜纳米线阵列中的各个纳米线被紧密包裹于所述SEBS薄膜中,形成由所述氢氧化铜纳米线阵列中的各个纳米线填充所述SEBS薄膜上对应的纳米孔的结构。
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