[实用新型]一种真空镀膜设备

摘要

本实用新型公开了一种真空镀膜设备，包括底座、真空室和移动装置；打开控制面板上的电源开关按键，设备开始运行，使得上镀膜锅与下镀膜锅相吻合，移动杆一端的带动卡爪安装盘慢慢的转动，可以使得需要镀膜的物件均匀的进行镀膜处理，下镀膜锅中的离子束发生器发射出离子束，使得镀膜料放置腔中的镀膜料通过镀膜喷头上的镀膜喷孔喷出，然后在卡爪上的镀膜物件进行镀膜处理，在镀膜的过程中，移动杆和移动装置上的丝杆进行往复运动，避免装置一直压紧下镀膜锅，从而使得下镀膜锅的压力减小，保护装置的安全性，提高装置的使用寿命，上镀膜锅和下镀膜锅的形状大小相同，从而增加了真空镀膜的效率和质量，使用起来操作方便快捷，实用性很高。

主权项

1.一种真空镀膜设备，包括底座(1)、真空室(2)和移动装置(6)；其特征在于，所述底座(1)的下侧四个拐角处设有空槽(18)，空槽(18)上设有固定轴(22)，固定轴(22)上设有万向轮(21)，万向轮(21)上设有伸缩臂(20)，伸缩臂(20)远离万向轮(21)的一端与空槽(18)固定连接，伸缩臂(20)的中间设有销轴(19)；所述底座(1)的上侧设有真空室(2)，真空室(2)的左上侧设有控制面板(3)，控制面板(3)内设有控制器(4)，真空室(2)的上侧设有电机(10)，真空室(2)的内部上侧设有移动装置(6)，且移动装置(6)与电机(10)连接，移动装置(6)上设有丝杆(8)，丝杆(8)的两侧设有固定杆(7)，丝杆(8)和固定杆(7)上设有滑块(9)，滑块(9)上设有移动杆(11)，移动杆(11)的下侧设有转轴(12)，转轴(12)的下侧设有上镀膜锅(15)，上镀膜锅(15)的内部上侧设有卡爪安装盘(13)，卡爪安装盘(13)上设有卡爪(14)；所述真空室(2)的内部下侧设有缓冲垫(17)，缓冲垫(17)上设有下镀膜锅(16)，下镀膜锅(16)的内部设有离子束发生器(23)，离子束发生器(23)的上侧设有镀膜料放置腔(24)，镀膜料放置腔(24)的上侧设有镀膜喷头(25)，镀膜喷头(25)上设有镀膜喷孔(26)。