[实用新型]一种真空镀膜设备

说明书

本实用新型公开了一种真空镀膜设备，包括底座、真空室和移动装置；打开控制面板上的电源开关按键，设备开始运行，使得上镀膜锅与下镀膜锅相吻合，移动杆一端的带动卡爪安装盘慢慢的转动，可以使得需要镀膜的物件均匀的进行镀膜处理，下镀膜锅中的离子束发生器发射出离子束，使得镀膜料放置腔中的镀膜料通过镀膜喷头上的镀膜喷孔喷出，然后在卡爪上的镀膜物件进行镀膜处理，在镀膜的过程中，移动杆和移动装置上的丝杆进行往复运动，避免装置一直压紧下镀膜锅，从而使得下镀膜锅的压力减小，保护装置的安全性，提高装置的使用寿命，上镀膜锅和下镀膜锅的形状大小相同，从而增加了真空镀膜的效率和质量，使用起来操作方便快捷，实用性很高。

技术领域

本实用新型涉及镀膜技术领域，具体是一种真空镀膜设备。

背景技术

种由物理方法产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。在进行真空镀膜的过程中，通常将待镀膜的基片放入真空室内，并由安装在基片承载部上的夹具对基片进行夹持，由离子源对置放在镀膜材料置放部的镀膜材料进行轰击，使镀膜材料溅射并均匀沉积在基片表面，在长期进行镀膜材料的轰击，使设备长时间处于压紧状态，降低设备的使用寿命。

因此，本领域技术人员提供了一种真空镀膜设备，以解决上述背景技术中提出的问题。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种真空镀膜设备，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种真空镀膜设备，包括底座、真空室和移动装置；所述底座的下侧四个拐角处设有空槽，空槽上设有固定轴，固定轴上设有万向轮，万向轮上设有伸缩臂，伸缩臂远离万向轮的一端与空槽固定连接，伸缩臂的中间设有销轴；

所述底座的上侧设有真空室，真空室的左上侧设有控制面板，控制面板内设有控制器，真空室的上侧设有电机，真空室的内部上侧设有移动装置，且移动装置与电机连接，移动装置上设有丝杆，丝杆的两侧设有固定杆，丝杆和固定杆上设有滑块，滑块上设有移动杆，移动杆的下侧设有转轴，转轴的下侧设有上镀膜锅，上镀膜锅的内部上侧设有卡爪安装盘，卡爪安装盘上设有卡爪；

所述真空室的内部下侧设有缓冲垫，缓冲垫上设有下镀膜锅，下镀膜锅的内部设有离子束发生器，离子束发生器的上侧设有镀膜料放置腔，镀膜料放置腔的上侧设有镀膜喷头，镀膜喷头上设有镀膜喷孔。

作为本实用新型进一步的方案：所述真空室的内壁上设有真空垫。

作为本实用新型再进一步的方案：所述控制器的型号为：VS1024U。

作为本实用新型再进一步的方案：所述上镀膜锅和下镀膜锅的形状大小相同。

作为本实用新型再进一步的方案：所述卡爪设置为若干个，且卡爪等距设置。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

本装置适用于多种镀膜场合，打开控制面板上的电源开关按键，设备开始运行，将镀膜料放置在下镀膜锅中的镀膜料放置腔内，将需要镀膜的物件放置在卡爪上，驱动电机使得移动杆上下移动，使得上镀膜锅与下镀膜锅相吻合，移动杆一端的带动卡爪安装盘慢慢的转动，卡爪安装盘从而带动卡爪慢慢的转动，可以使得需要镀膜的物件均匀的进行镀膜处理，下镀膜锅中的离子束发生器发射出离子束，使得镀膜料放置腔中的镀膜料通过镀膜喷头上的镀膜喷孔喷出，然后在卡爪上的镀膜物件进行镀膜处理，在镀膜的过程中，移动杆和移动装置上的丝杆进行往复运动，避免装置一直压紧下镀膜锅，从而使得下镀膜锅的压力减小，保护装置的安全性，提高装置的使用寿命，上镀膜锅和下镀膜锅的形状大小相同，从而增加了真空镀膜的效率和质量，使用起来操作方便快捷，实用性很高。

附图说明

图1为一种真空镀膜设备的结构示意图。