[实用新型]一种可无限拼接的优化局部屏蔽结构

摘要

本实用新型涉及核辐射防护技术领域，提供一种可无限拼接的优化局部屏蔽结构，包括边条、1型屏蔽块、2型屏蔽块和不锈钢边框，所述1型屏蔽块和2型屏蔽块均采用边长为D+2d，厚度相同的正方形母板加工而成，1型屏蔽块与2型屏蔽块之间采用错缝搭接的方式形成一个整体，置于不锈钢边框内，屏蔽块与不锈钢边框之间的间隙由边条填充。本实用新型结构简单、搭接方便，仅用两种规格的屏蔽块即可实现无限拼接，完成任意面积的局部屏蔽需求，同时，错缝连接，安全性高，本实用新型可适用于不同场所、不同位置，屏蔽效果好。

主权项

1.一种可无限拼接的优化局部屏蔽结构，其特征是：包括边条、1型屏蔽块、2型屏蔽块和不锈钢边框，所述1型屏蔽块和2型屏蔽块均采用边长为D+2d、厚度相同的正方形母板加工而成，1型屏蔽块为正方形母板沿底面某条棱去除宽度d、总厚度一半的矩形条，沿底面对边位置的另一条棱去除宽度d、总厚度一半的矩形条，沿正面垂直位置的两条棱去除宽度d、总厚度一半的矩形条而成，2型屏蔽块为正方形母板沿正面四条棱去除宽度d、总厚度一半的矩形条而成，1型屏蔽块与2型屏蔽块之间采用错缝搭接的方式形成一个整体，置于不锈钢边框内，屏蔽块与不锈钢边框之间的间隙由边条填充。