[实用新型]一种可无限拼接的优化局部屏蔽结构有效

专利信息
申请号: 201820487871.4 申请日: 2018-04-08
公开(公告)号: CN208141841U 公开(公告)日: 2018-11-23
发明(设计)人: 吴荣俊;陈艳;聂凌霄;许静静;贾靖轩;李晓玲 申请(专利权)人: 中国船舶重工集团公司第七一九研究所
主分类号: G21F3/00 分类号: G21F3/00
代理公司: 武汉天力专利事务所 42208 代理人: 吴晓颖
地址: 430205 湖北省武汉*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 屏蔽 本实用新型 不锈钢边框 拼接 局部屏蔽结构 边条 防护技术领域 核辐射 错缝搭接 局部屏蔽 屏蔽效果 边长 错缝 搭接 母板 填充 优化 加工
【权利要求书】:

1.一种可无限拼接的优化局部屏蔽结构,其特征是:包括边条、1型屏蔽块、2型屏蔽块和不锈钢边框,所述1型屏蔽块和2型屏蔽块均采用边长为D+2d、厚度相同的正方形母板加工而成,1型屏蔽块为正方形母板沿底面某条棱去除宽度d、总厚度一半的矩形条,沿底面对边位置的另一条棱去除宽度d、总厚度一半的矩形条,沿正面垂直位置的两条棱去除宽度d、总厚度一半的矩形条而成,2型屏蔽块为正方形母板沿正面四条棱去除宽度d、总厚度一半的矩形条而成,1型屏蔽块与2型屏蔽块之间采用错缝搭接的方式形成一个整体,置于不锈钢边框内,屏蔽块与不锈钢边框之间的间隙由边条填充。

2.根据权利要求1所述的可无限拼接的优化局部屏蔽结构,其特征是:屏蔽块为γ屏蔽材料,或为中子屏蔽材料,或为复合屏蔽材料,边条与屏蔽块材料相同。

3.根据权利要求1所述的可无限拼接的优化局部屏蔽结构,其特征是:搭接后的1型屏蔽块和2型屏蔽块之间采用螺栓固定。

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