[实用新型]一种双面真空磁控溅射卷绕镀膜装置有效

专利信息
申请号: 201820340474.4 申请日: 2018-03-13
公开(公告)号: CN207958491U 公开(公告)日: 2018-10-12
发明(设计)人: 桂礼家;徐地华 申请(专利权)人: 南昌正业科技有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/56
代理公司: 长沙智德知识产权代理事务所(普通合伙) 43207 代理人: 左祝安
地址: 330000 江西省*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 实用新型公开了一种双面真空磁控溅射卷绕镀膜装置,包括控制箱、立柱、加强筋和镀膜箱,所述立柱一侧设置有所述控制箱,所述立柱远离所述控制箱一侧设置有所述加强筋,所述驱动电机一侧设置有防护罩,所述防护罩内设置有链轮,所述链轮上设置有链条,所述机架上设置有放料辊架,所述放料辊架上设置有放料辊,所述控制箱上设置有显示屏,所述显示屏下方设置有急停按钮,所述急停按钮一侧设置有控制按钮。有益效果在于:本实用新型设置有深冷泵,能够提高对连续镀膜过程中基材的放气抽速,从而提高了工作效率,设置有主动轮和从动轮,能够对基材进行双面真空磁控溅射,工作效率较高、镀膜质量极高,经济性较好。
搜索关键词: 控制箱 真空磁控溅射 放料辊 立柱 防护罩 卷绕镀膜装置 本实用新型 工作效率 急停按钮 加强筋 基材 链轮 显示屏 控制按钮 连续镀膜 驱动电机 从动轮 镀膜箱 抽速 动轮 镀膜 放气 深冷 链条
【主权项】:
1.一种双面真空磁控溅射卷绕镀膜装置,其特征在于:包括控制箱(1)、立柱(2)、加强筋(3)和镀膜箱(4),所述立柱(2)一侧设置有所述控制箱(1),所述立柱(2)远离所述控制箱(1)一侧设置有所述加强筋(3),所述加强筋(3)远离所述立柱(2)一侧设置有所述镀膜箱(4),所述镀膜箱(4)上设置有导向轮架(6),所述导向轮架(6)上设置有导向轮(5),所述立柱(2)上设置有机架(7),所述机架(7)上设置有收料辊架(8),所述收料辊架(8)上设置有收料辊(9),所述收料辊(9)一侧设置有皮带轮(10),所述皮带轮(10)上设置有皮带(11),所述皮带(11)远离所述皮带轮(10)一端设置有收料电机(12),所述收料电机(12)远离所述收料辊架(8)的一侧设置有真空泵箱(13),所述镀膜箱(4)上设置有驱动电机(14),所述驱动电机(14)一侧设置有防护罩(15),所述防护罩(15)内设置有链轮(18),所述链轮(18)上设置有链条(16),所述机架(7)上设置有放料辊架(21),所述放料辊架(21)上设置有放料辊(19),所述放料辊(19)上设置有基材(17),所述放料辊(19)一侧设置有轴承端盖(20),所述镀膜箱(4)内设置有真空腔(25),所述真空腔(25)内设置有主动辊(23),所述主动辊(23)一侧设置有阴极靶(22),所述镀膜箱(4)底部设置有深冷泵(24),所述主动辊(23)远离所述阴极靶(22)的一侧设置有从动辊(26),所述从动辊(26)一侧设置有涨紧轮(27),所述控制箱(1)上设置有显示屏(28),所述显示屏(28)下方设置有急停按钮(29),所述急停按钮(29)一侧设置有控制按钮(30)。
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