[实用新型]一种双面真空磁控溅射卷绕镀膜装置

说明书

本实用新型公开了一种双面真空磁控溅射卷绕镀膜装置，包括控制箱、立柱、加强筋和镀膜箱，所述立柱一侧设置有所述控制箱，所述立柱远离所述控制箱一侧设置有所述加强筋，所述驱动电机一侧设置有防护罩，所述防护罩内设置有链轮，所述链轮上设置有链条，所述机架上设置有放料辊架，所述放料辊架上设置有放料辊，所述控制箱上设置有显示屏，所述显示屏下方设置有急停按钮，所述急停按钮一侧设置有控制按钮。有益效果在于：本实用新型设置有深冷泵，能够提高对连续镀膜过程中基材的放气抽速，从而提高了工作效率，设置有主动轮和从动轮，能够对基材进行双面真空磁控溅射，工作效率较高、镀膜质量极高，经济性较好。

技术领域

本实用新型涉及磁控溅射镀膜装置技术领域，具体涉及一种双面真空磁控溅射卷绕镀膜装置。

背景技术

溅射镀膜就是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面，使被轰击出的粒子沉积在基片上的技术。通常，利用低压惰性气体辉光放电来产生入射离子。阴极靶由镀膜材料制成，基片作为阳极，真空室中通入0.1-10Pa的氩气或其它惰性气体，在阴极（靶）1-3KV直流负高压或13.56MHz的射频电压作用下产生辉光放电。电离出的氩离子轰击靶表面，使得靶原子溅出并沉积在基片上，形成薄膜。由于被溅射原子是与具有数十电子伏特能量的正离子交换动能后飞溅出来的，因而溅射出来的原子能量高，有利于提高沉积时原子的扩散能力，提高沉积组织的致密程度，使制出的薄膜与基片具有强的附着力。溅射时，气体被电离之后，气体离子在电场作用下飞向接阴极的靶材，电子则飞向接地的壁腔和基片。目前，市面上常见的真空磁控溅射装置普遍应用于小面积或单面镀膜，真正可量化生产的双面连续化镀膜装置并不多见，且常用真空磁控溅射镀膜装置多存在镀膜效率低、镀膜质量差、产品良率低、制程能力差等缺点。

发明内容

本实用新型的目的就在于为了解决上述问题而提供一种双面真空磁控溅射卷绕镀膜装置。

本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的：

一种双面真空磁控溅射卷绕镀膜装置，包括控制箱、立柱、加强筋和镀膜箱，所述立柱一侧设置有所述控制箱，所述立柱远离所述控制箱一侧设置有所述加强筋，所述加强筋远离所述立柱一侧设置有所述镀膜箱，所述镀膜箱上设置有导向轮架，所述导向轮架上设置有导向轮，所述立柱上设置有机架，所述机架上设置有收料辊架，所述收料辊架上设置有收料辊，所述收料辊一侧设置有皮带轮，所述皮带轮上设置有皮带，所述皮带远离所述皮带轮一端设置有收料电机，所述收料电机远离所述收料辊架的一侧设置有真空泵箱，所述镀膜箱上设置有驱动电机，所述驱动电机一侧设置有防护罩，所述防护罩内设置有链轮，所述链轮上设置有链条，所述机架上设置有放料辊架，所述放料辊架上设置有放料辊，所述放料辊上设置有基材，所述放料辊一侧设置有轴承端盖，所述镀膜箱内设置有真空腔，所述真空腔内设置有主动辊，所述主动辊一侧设置有阴极靶，所述镀膜箱底部设置有深冷泵，所述主动辊远离所述阴极靶的一侧设置有从动辊，所述从动辊一侧设置有涨紧轮，所述控制箱上设置有显示屏，所述显示屏下方设置有急停按钮，所述急停按钮一侧设置有控制按钮。

上述结构中，启动所述控制箱上的所述控制按钮，所述收料电机工作，带动所述收料辊旋转收取磁控溅射后的所述基材，所述真空泵箱内的真空泵工作，使所述镀膜箱内的所述真空腔达到真空状态，所述驱动电机工作，带动所述主动轮旋转，进而通过所述链条带动所述从动轮旋转，带动所述基材移动，在所述阴极靶的作用下进行磁控溅射，通过所述主动辊和所述从动辊完成双面磁控溅射，在此过程中，所述深冷泵能够提高对连续镀膜过程中所述基材的放气抽速，从而提高了工作效率，所述涨紧轮能够根据需要进行调节，保证所述基材紧贴所述主动辊和所述从动辊。

为了进一步提高双面镀膜的效果，所述控制箱通过螺栓与所述立柱连接，所述立柱通过螺栓与所述机架连接。

为了进一步提高双面镀膜的效果，所述加强筋通过螺钉与所述立柱连接，所述加强筋与所述镀膜箱通过焊接连接，所述镀膜箱上设置有两个所述加强筋。