[实用新型]一种设置气体弧光等离子体清洗源的镀膜机有效
| 申请号： | 201820214436.4 | 申请日： | 2018-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN208791734U | 公开（公告）日： | 2019-04-26 |
| 发明（设计）人： | 王福贞 | 申请（专利权）人： | 王福贞 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 关畅;王春霞 |
| 地址： | 100102 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种设置气体弧光等离子体清洗源的镀膜机。所述镀膜机包括磁控溅射镀膜机本体；磁控溅射镀膜机本体包括镀膜室和设于镀膜室内的工件转架和磁控溅射靶；镀膜室的顶部设有空心阴极电子枪，镀膜室的底部设有水冷阳极，空心阴极电子枪的位置与水冷阳极的位置相对应；空心阴极电子枪和水冷阳极分别连接电源的负极和正极。本实用新型配置了空心阴极电子枪以后，使得在辉光放电中进行镀膜的清洗工件过程和镀膜过程，始终受到弧光放电等离子体的作用，既能提高轰击清洗工件的效果，提高膜基结合力，又进一步提高膜层原子的离化率，有利于改善膜层组织，有利于形成化合物膜层，可以获得到各种优异的薄膜材料。 | ||
| 搜索关键词： | 空心阴极电子枪 阳极 镀膜机 镀膜室 水冷 磁控溅射镀膜机 等离子体清洗 本实用新型 气体弧光 清洗工件 镀膜 膜层 等离子体 正极 磁控溅射靶 化合物膜层 膜基结合力 负极 薄膜材料 镀膜过程 工件转架 弧光放电 辉光放电 连接电源 离化 轰击 室内 配置 | ||
【主权项】：
1.一种设置气体弧光等离子体清洗源的镀膜机，包括磁控溅射镀膜机本体；所述磁控溅射镀膜机本体包括镀膜室和设于所述镀膜室内的工件转架和磁控溅射靶；其特征在于：所述镀膜室的顶部设有空心阴极电子枪，所述镀膜室的底部设有水冷阳极，所述空心阴极电子枪的位置与所述水冷阳极的位置相对应；所述空心阴极电子枪和所述水冷阳极分别连接电源的负极和正极。
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