[实用新型]一种设置气体弧光等离子体清洗源的镀膜机有效
| 申请号： | 201820214436.4 | 申请日： | 2018-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN208791734U | 公开（公告）日： | 2019-04-26 |
| 发明（设计）人： | 王福贞 | 申请（专利权）人： | 王福贞 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 关畅;王春霞 |
| 地址： | 100102 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 空心阴极电子枪 阳极 镀膜机 镀膜室 水冷 磁控溅射镀膜机 等离子体清洗 本实用新型 气体弧光 清洗工件 镀膜 膜层 等离子体 正极 磁控溅射靶 化合物膜层 膜基结合力 负极 薄膜材料 镀膜过程 工件转架 弧光放电 辉光放电 连接电源 离化 轰击 室内 配置 | ||
1.一种设置气体弧光等离子体清洗源的镀膜机，包括磁控溅射镀膜机本体；所述磁控溅射镀膜机本体包括镀膜室和设于所述镀膜室内的工件转架和磁控溅射靶；其特征在于：
所述镀膜室的顶部设有空心阴极电子枪，所述镀膜室的底部设有水冷阳极，所述空心阴极电子枪的位置与所述水冷阳极的位置相对应；
所述空心阴极电子枪和所述水冷阳极分别连接电源的负极和正极。
2.根据权利要求1所述的镀膜机，其特征在于：所述空心阴极电子枪设于所述镀膜室的顶部中央。
3.根据权利要求1或2所述的镀膜机，其特征在于：所述空心阴极电子枪由发射热电子的材料制成；
所述发射热电子的材料为钽管或钽管与六硼化镧的复合结构。
4.根据权利要求3所述的镀膜机，其特征在于：所述镀膜室的外周壁的上部和下部设有电磁线圈。
5.根据权利要求4所述的镀膜机，其特征在于：所述磁控溅射靶为旋靶管型柱状非平衡磁控溅射靶或旋靶管型柱状平衡磁控溅射靶。
6.根据权利要求5所述的镀膜机，其特征在于：沿设于所述工件转架的外周设置若干个所述旋靶管型状柱非平衡磁控溅射靶或所述旋靶管型柱状平衡磁控溅射靶。
7.根据权利要求5所述的镀膜机，其特征在于：沿设于所述工件转架的外周和内周均设置若干个所述旋靶管型柱状非平衡磁控溅射靶或所述旋靶管型柱状平衡磁控溅射靶。
8.根据权利要求4所述的镀膜机，其特征在于：所述磁控溅射靶为平面磁控溅射靶。
9.根据权利要求8所述的镀膜机，其特征在于：所述平面磁控溅射靶为平面非平衡磁控溅射靶或平面平衡磁控溅射靶。
10.根据权利要求9所述的镀膜机，其特征在于：所述平面磁控溅射靶设于所述镀膜室的侧壁上。
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