[实用新型]一种判断光栅尺参考位置的装置有效
| 申请号： | 201820120819.5 | 申请日： | 2018-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN207717034U | 公开（公告）日： | 2018-08-10 |
| 发明（设计）人： | 周倩;倪凯;肖翔;李星辉;王欢欢;曾理江;苏晓;袁伟涵;王晓浩 | 申请（专利权）人： | 清华大学深圳研究生院 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00 |
| 代理公司： | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人： | 方艳平 |
| 地址： | 518055 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种判断光栅尺参考位置的装置，包括光源、参考点编码区、参考点掩膜、光电探测器和信号处理计算机，所述光源的光束依次穿过所述参考点掩膜和参考点编码区的透光部分之后透射到所述光电探测器上，所述光电探测器将采集到的信号发送给所述信号处理计算机，其中所述参考点掩膜和所述参考点编码区相互平行且具有相同的透光结构。本实用新型能够大幅度提升参考点的检测准确度和光栅尺系统的精度，同时能够降低参考点掩膜的制造难度和参考点编码区的复杂度，提高了装置的经济型和鲁棒性。 | ||
| 搜索关键词： | 参考点 编码区 掩膜 光电探测器 信号处理计算机 本实用新型 参考位置 光栅尺 光源 光栅尺系统 透光结构 准确度 复杂度 经济型 鲁棒性 透光 透射 平行 采集 穿过 检测 制造 | ||
【主权项】：
1.一种判断光栅尺参考位置的装置，其特征在于，包括光源、参考点编码区、参考点掩膜、光电探测器和信号处理计算机，所述光源的光束依次穿过所述参考点掩膜和参考点编码区的透光部分之后透射到所述光电探测器上，所述光电探测器将采集到的信号发送给所述信号处理计算机，其中所述参考点掩膜和所述参考点编码区相互平行且具有相同的透光结构。
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