[实用新型]一种判断光栅尺参考位置的装置有效
| 申请号: | 201820120819.5 | 申请日: | 2018-01-24 |
| 公开(公告)号: | CN207717034U | 公开(公告)日: | 2018-08-10 |
| 发明(设计)人: | 周倩;倪凯;肖翔;李星辉;王欢欢;曾理江;苏晓;袁伟涵;王晓浩 | 申请(专利权)人: | 清华大学深圳研究生院 |
| 主分类号: | G01B11/00 | 分类号: | G01B11/00 |
| 代理公司: | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人: | 方艳平 |
| 地址: | 518055 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 参考点 编码区 掩膜 光电探测器 信号处理计算机 本实用新型 参考位置 光栅尺 光源 光栅尺系统 透光结构 准确度 复杂度 经济型 鲁棒性 透光 透射 平行 采集 穿过 检测 制造 | ||
1.一种判断光栅尺参考位置的装置,其特征在于,包括光源、参考点编码区、参考点掩膜、光电探测器和信号处理计算机,所述光源的光束依次穿过所述参考点掩膜和参考点编码区的透光部分之后透射到所述光电探测器上,所述光电探测器将采集到的信号发送给所述信号处理计算机,其中所述参考点掩膜和所述参考点编码区相互平行且具有相同的透光结构。
2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述光源的光束为平行光束。
3.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述光电探测器采用光电二极管。
4.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述参考点掩膜和所述参考点编码区的间距小于或等于1mm。
5.根据权利要求1至4任一项所述的装置,其特征在于,所述参考点掩膜和所述参考点编码区均为线性条状结构,而且均由不透明的黑色区域和全透明的白色区域按照预定的编码规则组成。
6.根据权利要求5所述的装置,其特征在于,所述参考点编码区的编码包括所述参考点掩膜的编码。
7.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述参考点掩膜的编码总位数为30位,每一位对应的长度为50mm。
8.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述参考点掩膜的编码为0010000100001000010000100,其中0表示黑色区域,1表示白色区域。
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