[实用新型]一种单向TVS芯片有效

专利信息
申请号: 201820025609.8 申请日: 2018-01-08
公开(公告)号: CN207731934U 公开(公告)日: 2018-08-14
发明(设计)人: 保爱林;谢晓东 申请(专利权)人: 浙江明德微电子股份有限公司
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861;H01L29/06
代理公司: 绍兴市越兴专利事务所(普通合伙) 33220 代理人: 蒋卫东
地址: 312000 浙*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开一种单向TVS芯片,包括均匀掺杂的基片,从所述基片的两面分别掺入与基片导电类型相反的杂质而形成的第一异型杂质扩散区和第二异型杂质扩散区,所述基片与第一异型杂质扩散区之间形成第一PN结,所述基片与第二异型杂质扩散区之间形成第二PN结,所述第二PN结上设有短路区和/或短路环;所述单向TVS芯片的两面覆盖有金属层。本实用新型所述的单向TVS芯片,为特殊的N+‑P‑N+(或者P+‑N‑P+)三层、双结结构,包括确定单向TVS电特性的第一PN结以及设有短路区和/或短路环的第二PN结,具有:①更低的钳位电压,②更大的浪涌电流耐量。
搜索关键词: 杂质扩散区 本实用新型 短路环 短路区 基片导电类型 均匀掺杂 浪涌电流 钳位电压 电特性 金属层 掺入 三层 双结 覆盖
【主权项】:
1.一种单向TVS芯片,其特征在于:包括均匀掺杂的基片,通过所述基片的两面分别掺入与基片导电类型相反的异型杂质形成与基片导电类型相反的第一异型杂质扩散区和第二异型杂质扩散区。所述基片与第一异型杂质扩散区之间形成第一PN结,所述基片与第二异型杂质扩散区之间形成第二PN结,所述第二PN结上设有短路区和/或短路环;所述第一异型杂质扩散区表面和第二异型杂质扩散区及短路区和/或短路环的表面覆盖有金属层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江明德微电子股份有限公司,未经浙江明德微电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201820025609.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top