[发明专利]一种化学机械抛光液在审
| 申请号： | 201811639166.2 | 申请日： | 2018-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN111378381A | 公开（公告）日： | 2020-07-07 |
| 发明（设计）人： | 卞鹏程;荆建芬;姚颖;李恒;黄悦锐;马健 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;王芳 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种碱性化学机械抛光液，其含有二氧化硅研磨颗粒、唑类化合物、络合剂、阴离子表面活性剂、钾盐和氧化剂。本发明的抛光液中加入了阴离子表面活性剂，改善了在高离子强度、高固含量下的胶体稳定性；静置较长时间后，抛光液的抛光速率不受影响，从而使得本发明的化学机械抛光液可以多倍浓缩，降低了抛光液的生产、存储及运输成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
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