[发明专利]一种降低扩散暗电流的CMOS图像传感器像素结构在审

专利信息
申请号: 201811618619.3 申请日: 2018-12-28
公开(公告)号: CN111403426A 公开(公告)日: 2020-07-10
发明(设计)人: 徐江涛;王瑞硕;夏梦真;史兴萍;李凤 申请(专利权)人: 天津大学青岛海洋技术研究院
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H04N5/357;H04N5/361;H04N5/374
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 266200 山东省青岛市鳌*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 一种降低扩散暗电流的CMOS图像传感器像素结构,主要由光电二极管PPD、传输栅TG、浮空扩散节点FD、以及深N_abs层组成;STI为浅沟槽隔离,其作用是将相邻两个像素进行电学隔离,防止串扰现象;该像素结构采用多加一次高能量的N型掺杂注入,可以在外延层中性区形成新的耗尽区,使得中性区的大多数电荷被新形成的耗尽区收集,从而有效的降低中性区扩散暗电流,进一步提高了图像传感器的动态范围和信噪比,大大提高了成像质量。
搜索关键词: 一种 降低 扩散 电流 cmos 图像传感器 像素 结构
【主权项】:
暂无信息
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