[发明专利]用于研究等离子体增强射流掺混的剪切式矩形喷嘴装置有效
| 申请号： | 201811590461.3 | 申请日： | 2018-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN109723569B | 公开（公告）日： | 2020-02-07 |
| 发明（设计）人： | 聂万胜;陈庆亚;车学科;周思引;苏凌宇;陈川;郑体凯;李亮;候志勇;王海青 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军战略支援部队航天工程大学 |
| 主分类号： | F02K1/78 | 分类号： | F02K1/78 |
| 代理公司： | 11496 北京君泊知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王程远 |
| 地址： | 101400*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种剪切式矩形喷嘴装置，应用于等离子体增强射流掺混的实验研究，属于等离子体流动控制技术领域。所述喷嘴装置包括内喷嘴、外喷嘴和集气室。在所述集气室由前端盖、后端盖和中间隔离板装配而成。所述内喷嘴包括一个内喷嘴支架和两个内喷嘴壁板，所述内喷嘴支架固定在所述中间隔离板上，两个内喷嘴壁板均固定在内喷嘴支架上。所述外喷嘴由外喷嘴上部分和外喷嘴下部分组成，外喷嘴固定在所述前端盖上。本发明能够实现等离子体激励器的敷设和放电，开展等离子体增强射流掺混研究，具备多种参数调节功能。同时本申请的装置结构紧凑、零件加工简单、拆卸装配方便，具有很高的可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 内喷嘴 外喷嘴 等离子体增强 掺混 射流 中间隔离板 壁板 矩形喷嘴 集气室 剪切式 前端盖 等离子体激励器 等离子体流动 控制技术领域 参数调节 零件加工 喷嘴支架 喷嘴装置 实验研究 支架固定 装配方便 装置结构 后端盖 敷设 放电 支架 拆卸 紧凑 装配 研究 申请 应用 | ||
【主权项】：
1.一种用于研究等离子体增强射流掺混的剪切式矩形喷嘴装置，其特征在于，包括内喷嘴（21）、外喷嘴（31）和集气室（11），所述内喷嘴（21）和外喷嘴（31）均从所述集气室（11）内部伸出，所述内喷嘴（21）从所述外喷嘴（31）内部伸出；其中：/n在所述集气室（11）的前侧和后侧分别设有前端盖（120）和后端盖（140），所述前端盖（120）和后端盖（140）的连接处设有中间隔离板（130），所述中间隔离板（130）的中心区域为矩形中空区域；所述前端盖（120）上设有前端盖进气孔（122），所述后端盖（140）上设有后端盖进气孔（141）；/n所述内喷嘴（21）包括一个内喷嘴支架（220）和两个内喷嘴壁板（230），所述内喷嘴支架（220）固定在所述中间隔离板（130）上，所述内喷嘴支架（220）上设有支撑肋（223），两个内喷嘴壁板（230）均固定在所述支撑肋（223）上并组合成所述内喷嘴（21）；所述内喷嘴壁板（230）先穿过内喷嘴垫片（150），再从所述中间隔离板（130）的矩形中空区域伸出；所述内喷嘴（21）由所述后端盖进气孔（141）实现供气；/n所述外喷嘴（31）由外喷嘴上部分（330）和外喷嘴下部分（320）组成，所述外喷嘴（31）固定在所述前端盖（120）上，并由所述前端盖进气孔（122）实现供气。/n
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