[发明专利]用于研究等离子体增强射流掺混的剪切式矩形喷嘴装置

权利要求书

1.一种用于研究等离子体增强射流掺混的剪切式矩形喷嘴装置，其特征在于，包括内喷嘴（21）、外喷嘴（31）和集气室（11），所述内喷嘴（21）和外喷嘴（31）均从所述集气室（11）内部伸出，所述内喷嘴（21）从所述外喷嘴（31）内部伸出；其中：

在所述集气室（11）的前侧和后侧分别设有前端盖（120）和后端盖（140），所述前端盖（120）和后端盖（140）的连接处设有中间隔离板（130），所述中间隔离板（130）的中心区域为矩形中空区域；所述前端盖（120）上设有前端盖进气孔（122），所述后端盖（140）上设有后端盖进气孔（141）；

所述内喷嘴（21）包括一个内喷嘴支架（220）和两个内喷嘴壁板（230），所述内喷嘴支架（220）固定在所述中间隔离板（130）上，所述内喷嘴支架（220）上设有支撑肋（223），两个内喷嘴壁板（230）均固定在所述支撑肋（223）上并组合成所述内喷嘴（21）；所述内喷嘴壁板（230）先穿过内喷嘴垫片（150），再从所述中间隔离板（130）的矩形中空区域伸出；所述内喷嘴（21）由所述后端盖进气孔（141）实现供气；

所述外喷嘴（31）由外喷嘴上部分（330）和外喷嘴下部分（320）组成，所述外喷嘴（31）固定在所述前端盖（120）上，并由所述前端盖进气孔（122）实现供气。

2.根据权利要求1所述的用于研究等离子体增强射流掺混的剪切式矩形喷嘴装置，其特征在于，所述前端盖（120）、后端盖（140）和中间隔离板（130）在相应位置均设有螺栓孔，内六角螺栓依次穿过前端盖（120）、中间隔离板（130）和后端盖（140）上的螺栓孔并将前端盖（120）、后端盖（140）和中间隔离板（130）装配为集气室（11）。

3.根据权利要求1所述的用于研究等离子体增强射流掺混的剪切式矩形喷嘴装置，其特征在于，所述内喷嘴支架（220）包括支架壁板（222）和支撑肋（223），所述支撑肋（223）垂直于支架壁板（222）设置，所述支架壁板（222）平行于所述中间隔离板（130）设置，所述两个内喷嘴壁板（230）垂直于支架壁板（222）设置并固定在所述支撑肋（223）上；所述内喷嘴垫片（150）设置在所述支架壁板（222）和中间隔离板（130）之间；所述支架壁板（222）、内喷嘴垫片（150）和中间隔离板（130）在相应位置均设有腰形孔，内六角螺栓依次穿过支架壁板（222）、内喷嘴垫片（150）和中间隔离板（130）的腰形孔将所述内喷嘴支架（220）固定在所述中间隔离板（130）上。

4.根据权利要求1所述的用于研究等离子体增强射流掺混的剪切式矩形喷嘴装置，其特征在于，所述外喷嘴上部分（330）和外喷嘴下部分（320）均包括底座（321）和外喷嘴壁板，所述外喷嘴壁板垂直于所述底座（321）设置，所述底座（321）平行于所述前端盖（120）设置，两个底座（321）和前端盖（120）的相应位置均设有腰形孔，内六角螺栓依次穿过两个底座（321）和前端盖（120）的腰形孔将所述外喷嘴（31）固定在所述前端盖（120）上。

5.根据权利要求4所述的用于研究等离子体增强射流掺混的剪切式矩形喷嘴装置，其特征在于，所述内喷嘴（21）和外喷嘴（31）的通气孔均为矩形，且所述通气孔的长宽比均大于50；内喷嘴壁板两侧和外喷嘴壁板两侧均可敷设等离子体激励器或直接作为等离子体激励器的介质阻挡层；两个外喷嘴壁板末端还均设置有定位孔（335）。

6.根据权利要求4所述的用于研究等离子体增强射流掺混的剪切式矩形喷嘴装置，其特征在于，所述内喷嘴垫片（150）、中间隔离板（130）及贴近前端盖（120）的外喷嘴底座（321）的两侧装配面均设置有密封橡胶圈。