[发明专利]一种镀膜设备、镀膜控制装置和方法在审

专利信息
申请号: 201811579214.3 申请日: 2018-12-21
公开(公告)号: CN109652777A 公开(公告)日: 2019-04-19
发明(设计)人: 潘旋 申请(专利权)人: 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/54
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人: 朱静谦
地址: 100176 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种镀膜设备、镀膜控制装置和方法,其中镀膜控制装置包括:至少一个挡片,用于接收入射粒子流并产生电流信号,挡片与镀膜窗口对应设置;控制模块,用于根据电流信号和预设目标参数输出对应的补偿信号;传动模块,与挡片连接,用于根据补偿信号调整对应的挡片的位置,以调整挡片对应的镀膜窗口大小,使得挡片对应的镀膜区域的入射粒子流满足预设目标参数;其中,预设目标参数为镀膜区域的入射粒子流的目标数。通过本发明实施例提供的方案,实现了镀膜过程中镀膜窗口挡片位置实时、连续和自动化调整,从而使得靶材在垂直方向上溅射的均匀性,准确性和时效性大大增加。
搜索关键词: 挡片 镀膜控制 预设目标 粒子流 镀膜 电流信号 镀膜区域 镀膜设备 入射 补偿信号调整 补偿信号 传动模块 镀膜过程 控制模块 均匀性 时效性 靶材 溅射 自动化 输出 收入
【主权项】:
1.一种镀膜控制装置,其特征在于,包括:至少一个挡片,用于接收入射粒子流并产生电流信号,所述挡片与镀膜窗口对应设置;控制模块,用于根据所述电流信号和预设目标参数输出对应的补偿信号;传动模块,与所述挡片连接,用于根据所述补偿信号调整对应的所述挡片的位置,以调整所述挡片对应的镀膜窗口大小,使得所述挡片对应的镀膜区域的入射粒子流满足所述预设目标参数;其中,所述预设目标参数为所述镀膜区域的入射粒子流的目标数。
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