[发明专利]一种镀膜设备、镀膜控制装置和方法

说明书

本发明提供了一种镀膜设备、镀膜控制装置和方法，其中镀膜控制装置包括：至少一个挡片，用于接收入射粒子流并产生电流信号，挡片与镀膜窗口对应设置；控制模块，用于根据电流信号和预设目标参数输出对应的补偿信号；传动模块，与挡片连接，用于根据补偿信号调整对应的挡片的位置，以调整挡片对应的镀膜窗口大小，使得挡片对应的镀膜区域的入射粒子流满足预设目标参数；其中，预设目标参数为镀膜区域的入射粒子流的目标数。通过本发明实施例提供的方案，实现了镀膜过程中镀膜窗口挡片位置实时、连续和自动化调整，从而使得靶材在垂直方向上溅射的均匀性，准确性和时效性大大增加。

技术领域

本发明属于薄膜发电技术领域，具体涉及一种镀膜设备、镀膜控制装置和方法。

背景技术

作为目前最先进最有发展前景的薄膜发电技术之一，其具有轻薄的特点，基于玻璃、钢和塑料等材料基底，可制成刚性或柔性的太阳能组件。

物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)真空溅射镀膜设备具有沉积快、膜厚均匀、可大规模连续作业的优点，在太阳能薄膜电池生产工艺中，背电极Mo、上电极TCO或其他一些功能膜层都会优先考虑PVD技术的使用，可以说PVD真空溅射镀膜设备在太阳能薄膜电池生产线上是必不可少的部分。

现有PVD真空溅射镀膜设备在溅射腔室的靶材与玻璃基片之间安装多个距离可调节的镀膜窗口，通过手动的将镀膜窗口挡片的位置调整至一个预设位置，对靶材溅射出的粒子的遮挡效果进行控制，以此来补偿靶材在垂直方向上的溅射不均匀性。由于镀膜窗口位置需要手动调整，误差较大，且每次调整只能在常压条件下进行，效率非常低。

发明内容

为此，本发明提出了一种镀膜设备、镀膜控制装置和方法，以解决镀膜窗口位置需要手动调整，误差较大，且每次调整只能在常压条件下进行，效率非常低的问题。

根据第一方面，本发明实施例提供了一种镀膜控制装置，包括：至少一个挡片，用于接收入射粒子流并产生电流信号，挡片与镀膜窗口对应设置；控制模块，用于根据电流信号和预设目标参数输出对应的补偿信号；传动模块，与挡片连接，用于根据补偿信号调整对应的挡片的位置，以调整挡片对应的镀膜窗口大小，使得挡片对应的镀膜区域的入射粒子流满足预设目标参数；其中，预设目标参数为镀膜区域的入射粒子流的目标数。

可选地，控制模块包括：补偿信号发生器，用于根据挡片位于当前位置时产生的电流信号，确定挡片当前位置下对应的镀膜区域的入射粒子流的数目；根据挡片当前位置下对应的镀膜区域的入射粒子流的数目和预设目标参数，确定挡片的目标位置；根据挡片的目标位置和挡片的当前位置，生成并输出用以调整挡片位置的补偿信号。

可选地，控制模块包括：信号转换器，用于接收至少一个挡片产生的电流信号，并将电流信号转变为对应的数字信号；相应地，补偿信号发生器用于根据挡片位于当前位置时所对应的数字信号，确定挡片当前位置下对应的镀膜区域的入射粒子流的数目。

可选地，补偿信号发生器包括：第一处理单元，用于根据挡片位于当前位置时产生的电流信号和第一预设关系，确定挡片当前位置下对应的镀膜区域的入射粒子流的数目；其中，第一预设关系用于表征挡片在不同位置下所产生的电流信号与挡片对应的镀膜区域的入射粒子数的数目之间的对应关系；第二处理单元，用于根据预设目标参数和挡片当前位置下对应的镀膜区域的入射粒子流的数目，确定挡片的目标阻挡量；根据挡片的目标阻挡量和第二预设关系，确定挡片的目标位置；其中，第二预设关系用于表征挡片在不同挡片位置的变化与挡片的阻挡量的变化之间的对应关系；补偿单元，用于根据挡片的目标位置和挡片的当前位置，生成并输出用以调整挡片位置的补偿信号。

可选地，传动模块包括：至少一个传动件，与挡片对应一一配合，用于调整挡片的位置；至少一个电机，与传动件对应连接，用于根据补偿信号驱动传动件动作。

可选地，控制模块还包括：信号收发器，用于将补偿信号传输至电机，以控制传动件执行相应的动作。