[发明专利]漂移探测器及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201811578851.9 申请日: 2018-12-21
公开(公告)号: CN109671799B 公开(公告)日: 2020-08-18
发明(设计)人: 贾锐;姜帅;陶科;刘赛;刘新宇 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L31/118 分类号: H01L31/118;H01L31/0224;H01L31/18
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种漂移探测器及其制作方法,其中,漂移探测器,包括:高阻N型衬底、P型半导体薄膜、N型半导体薄膜、金属电极层和隔离层,其中,P型半导体薄膜与高阻N型衬底构成PN结,或者P型半导体薄膜中的P型掺杂剂扩散到N型衬底中构成PN结,PN结形成:漂移电极、第一保护环、第二保护环和入射窗口;N型半导体薄膜与高阻N型衬底构成高低结,或者N型半导体薄膜中的N型掺杂剂扩散到N型衬底中构成高低结,高低结形成:阳极、第一接地电极和第二接地电极;以及第二P型半导体薄膜,用来形成分压器。该漂移探测器实现大面积、低噪声、能量分辨率高,且具有简单的制作工艺,可进行大批量制造。
搜索关键词: 漂移 探测器 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种漂移探测器,其特征在于,包括:高阻N型衬底;P型半导体薄膜和N型半导体薄膜,位于所述高阻N型衬底表面;金属电极层,位于所述P型半导体薄膜和N型半导体薄膜上;隔离层,位于所述高阻N型衬底表面,用于隔离P型半导体薄膜和N型半导体薄膜;其中,P型半导体薄膜与高阻N型衬底构成PN结,所述PN结形成:漂移电极、第一保护环、第二保护环和入射窗口;N型半导体薄膜与高阻N型衬底构成高低结,所述高低结形成:阳极、第一接地电极和第二接地电极;以及第二P型半导体薄膜,位于漂移电极之间的隔离层上的局部区域,和漂移电极区域的P型半导体薄膜是一体的,用来形成分压器。
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