[发明专利]漂移探测器及其制作方法有效
申请号: | 201811578851.9 | 申请日: | 2018-12-21 |
公开(公告)号: | CN109671799B | 公开(公告)日: | 2020-08-18 |
发明(设计)人: | 贾锐;姜帅;陶科;刘赛;刘新宇 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | H01L31/118 | 分类号: | H01L31/118;H01L31/0224;H01L31/18 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 任岩 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种漂移探测器及其制作方法,其中,漂移探测器,包括:高阻N型衬底、P型半导体薄膜、N型半导体薄膜、金属电极层和隔离层,其中,P型半导体薄膜与高阻N型衬底构成PN结,或者P型半导体薄膜中的P型掺杂剂扩散到N型衬底中构成PN结,PN结形成:漂移电极、第一保护环、第二保护环和入射窗口;N型半导体薄膜与高阻N型衬底构成高低结,或者N型半导体薄膜中的N型掺杂剂扩散到N型衬底中构成高低结,高低结形成:阳极、第一接地电极和第二接地电极;以及第二P型半导体薄膜,用来形成分压器。该漂移探测器实现大面积、低噪声、能量分辨率高,且具有简单的制作工艺,可进行大批量制造。 | ||
搜索关键词: | 漂移 探测器 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种漂移探测器,其特征在于,包括:高阻N型衬底;P型半导体薄膜和N型半导体薄膜,位于所述高阻N型衬底表面;金属电极层,位于所述P型半导体薄膜和N型半导体薄膜上;隔离层,位于所述高阻N型衬底表面,用于隔离P型半导体薄膜和N型半导体薄膜;其中,P型半导体薄膜与高阻N型衬底构成PN结,所述PN结形成:漂移电极、第一保护环、第二保护环和入射窗口;N型半导体薄膜与高阻N型衬底构成高低结,所述高低结形成:阳极、第一接地电极和第二接地电极;以及第二P型半导体薄膜,位于漂移电极之间的隔离层上的局部区域,和漂移电极区域的P型半导体薄膜是一体的,用来形成分压器。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所,未经中国科学院微电子研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811578851.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:漂移探测器及其制作方法
- 下一篇:改良式太阳能发电装置及其制造方法
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的