[发明专利]漂移探测器及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201811578851.9 申请日: 2018-12-21
公开(公告)号: CN109671799B 公开(公告)日: 2020-08-18
发明(设计)人: 贾锐;姜帅;陶科;刘赛;刘新宇 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L31/118 分类号: H01L31/118;H01L31/0224;H01L31/18
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 漂移 探测器 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种漂移探测器,其特征在于,包括:

高阻N型衬底;

P型半导体薄膜和N型半导体薄膜,位于所述高阻N型衬底表面;

金属电极层,位于所述P型半导体薄膜和N型半导体薄膜上;

隔离层,位于所述高阻N型衬底表面,用于隔离P型半导体薄膜和N型半导体薄膜;

其中,P型半导体薄膜与高阻N型衬底构成PN结,所述PN结形成:漂移电极、第一保护环、第二保护环和入射窗口;N型半导体薄膜与高阻N型衬底构成高低结,所述高低结形成:阳极、第一接地电极和第二接地电极;以及

第二P型半导体薄膜,位于漂移电极之间的隔离层上的局部区域,和漂移电极区域的P型半导体薄膜是一体的,用来形成分压器。

2.一种漂移探测器,其特征在于,包括:

高阻N型衬底;

P型半导体薄膜,位于所述高阻N型衬底表面;

P+掺杂区,形成于高阻N型衬底中,位于所述P型半导体薄膜下方;

N型半导体薄膜,位于所述高阻N型衬底表面;

N+掺杂区,形成于高阻N型衬底中,位于所述N型半导体薄膜下方;

金属电极层,位于所述P型半导体薄膜和N型半导体薄膜上;

隔离层,位于所述高阻N型衬底表面,用于隔离P型半导体薄膜和N型半导体薄膜;

其中,P型半导体薄膜、P+掺杂区共同与高阻N型衬底构成PN结,所述PN结形成:漂移电极、第一保护环、第二保护环和入射窗口;N型半导体薄膜、N+掺杂区共同与高阻N型衬底构成高低结,所述高低结形成:阳极、第一接地电极和第二接地电极;以及

第二P型半导体薄膜,位于漂移电极之间的隔离层上的局部区域,和漂移电极区域的P型半导体薄膜是一体的,用来形成分压器。

3.根据权利要求1或2所述的漂移探测器,其中,

所述阳极、漂移电极、第一保护环和第一接地电极位于高阻N型衬底的一面,且由中心往外围依次分布;

所述入射窗口,第二保护环和第二接地电极位于高阻N型衬底的另一面,且入射窗口与阳极和漂移电极所在区域对应,第二保护环与第一保护环对应,第二接地电极与第一接地电极对应。

4.根据权利要求1或2所述的漂移探测器,其中,所述漂移电极为一个个分离的环状结构,环的形状为圆形、方形、多边形或者不规则形状,形成一个个分离的漂移环,所述阳极位于最内环的漂移环的中心。

5.根据权利要求4所述的漂移探测器,其中,各个所述分离的漂移环之间通过所述分压器相连。

6.根据权利要求1或2所述的漂移探测器,其中,所述漂移电极为一体化的螺旋结构,该漂移电极从内到外螺旋式的延伸,该漂移电极本身作为分压器。

7.一种漂移探测器的制作方法,其特征在于,包括:

在高阻N型衬底的上、下表面沉积隔离层材料,并选择性去除要形成阳极、漂移电极、第一保护环、第一接地电极、入射窗口、第二保护环和第二接地电极的区域的隔离层材料,使高阻N型衬底表面露出;

在漂移电极、第一保护环、第二保护环和入射窗口的区域的高阻N型衬底表面沉积P型半导体薄膜,使P型半导体薄膜与高阻N型衬底形成PN结;

在阳极、第一接地电极和第二接地电极的区域的高阻N型衬底表面沉积N型半导体薄膜,使N型半导体薄膜与高阻N型衬底形成高低结;以及

在P型半导体薄膜和N型半导体薄膜上沉积金属电极层。

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