[发明专利]漂移探测器及其制作方法有效
申请号: | 201811578851.9 | 申请日: | 2018-12-21 |
公开(公告)号: | CN109671799B | 公开(公告)日: | 2020-08-18 |
发明(设计)人: | 贾锐;姜帅;陶科;刘赛;刘新宇 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | H01L31/118 | 分类号: | H01L31/118;H01L31/0224;H01L31/18 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 任岩 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 漂移 探测器 及其 制作方法 | ||
1.一种漂移探测器,其特征在于,包括:
高阻N型衬底;
P型半导体薄膜和N型半导体薄膜,位于所述高阻N型衬底表面;
金属电极层,位于所述P型半导体薄膜和N型半导体薄膜上;
隔离层,位于所述高阻N型衬底表面,用于隔离P型半导体薄膜和N型半导体薄膜;
其中,P型半导体薄膜与高阻N型衬底构成PN结,所述PN结形成:漂移电极、第一保护环、第二保护环和入射窗口;N型半导体薄膜与高阻N型衬底构成高低结,所述高低结形成:阳极、第一接地电极和第二接地电极;以及
第二P型半导体薄膜,位于漂移电极之间的隔离层上的局部区域,和漂移电极区域的P型半导体薄膜是一体的,用来形成分压器。
2.一种漂移探测器,其特征在于,包括:
高阻N型衬底;
P型半导体薄膜,位于所述高阻N型衬底表面;
P+掺杂区,形成于高阻N型衬底中,位于所述P型半导体薄膜下方;
N型半导体薄膜,位于所述高阻N型衬底表面;
N+掺杂区,形成于高阻N型衬底中,位于所述N型半导体薄膜下方;
金属电极层,位于所述P型半导体薄膜和N型半导体薄膜上;
隔离层,位于所述高阻N型衬底表面,用于隔离P型半导体薄膜和N型半导体薄膜;
其中,P型半导体薄膜、P+掺杂区共同与高阻N型衬底构成PN结,所述PN结形成:漂移电极、第一保护环、第二保护环和入射窗口;N型半导体薄膜、N+掺杂区共同与高阻N型衬底构成高低结,所述高低结形成:阳极、第一接地电极和第二接地电极;以及
第二P型半导体薄膜,位于漂移电极之间的隔离层上的局部区域,和漂移电极区域的P型半导体薄膜是一体的,用来形成分压器。
3.根据权利要求1或2所述的漂移探测器,其中,
所述阳极、漂移电极、第一保护环和第一接地电极位于高阻N型衬底的一面,且由中心往外围依次分布;
所述入射窗口,第二保护环和第二接地电极位于高阻N型衬底的另一面,且入射窗口与阳极和漂移电极所在区域对应,第二保护环与第一保护环对应,第二接地电极与第一接地电极对应。
4.根据权利要求1或2所述的漂移探测器,其中,所述漂移电极为一个个分离的环状结构,环的形状为圆形、方形、多边形或者不规则形状,形成一个个分离的漂移环,所述阳极位于最内环的漂移环的中心。
5.根据权利要求4所述的漂移探测器,其中,各个所述分离的漂移环之间通过所述分压器相连。
6.根据权利要求1或2所述的漂移探测器,其中,所述漂移电极为一体化的螺旋结构,该漂移电极从内到外螺旋式的延伸,该漂移电极本身作为分压器。
7.一种漂移探测器的制作方法,其特征在于,包括:
在高阻N型衬底的上、下表面沉积隔离层材料,并选择性去除要形成阳极、漂移电极、第一保护环、第一接地电极、入射窗口、第二保护环和第二接地电极的区域的隔离层材料,使高阻N型衬底表面露出;
在漂移电极、第一保护环、第二保护环和入射窗口的区域的高阻N型衬底表面沉积P型半导体薄膜,使P型半导体薄膜与高阻N型衬底形成PN结;
在阳极、第一接地电极和第二接地电极的区域的高阻N型衬底表面沉积N型半导体薄膜,使N型半导体薄膜与高阻N型衬底形成高低结;以及
在P型半导体薄膜和N型半导体薄膜上沉积金属电极层。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的