[发明专利]一种精抛棉及其制备方法在审
| 申请号： | 201811564755.9 | 申请日： | 2018-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN109434675A | 公开（公告）日： | 2019-03-08 |
| 发明（设计）人： | 卞振伟;方红;杨伟 | 申请（专利权）人： | 东莞金太阳研磨股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/11 | 分类号： | B24B37/11;B24D3/00;B24D3/28;B24D11/00;B24D11/02;B24D18/00 |
| 代理公司： | 东莞市华南专利商标事务所有限公司 44215 | 代理人： | 赵超群 |
| 地址： | 523821 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及磨具技术领域，具体涉及一种精抛棉及其制备方法，其结构包括依次复合的海绵层、基布层和研磨层，所述基布层靠近研磨层的一侧设有用于增加基布层和研磨层之间的附着力的粘结层，所述研磨层包括树脂基体、粘附于树脂基体上的多个用于研磨抛光的主研磨单元和多个用于协助主研磨单元进行研磨抛光的辅研磨单元，所述主研磨单元呈锥形，所述主研磨单元的尖端凸出树脂基体的上表面，所述主研磨单元凸出树脂基体的端部高于所述辅研磨单元凸出树脂基体的端部，所述基布层由多条经线和多条纬线交织而成，所述经线包括设于纬线上方的多个施胶部，所述粘结层设于施胶部上，所述研磨层设于粘结层上，研磨时磨料消耗速度慢，研磨抛光效果好。 | ||
| 搜索关键词： | 树脂基体 研磨层 主研磨 基布层 凸出 粘结层 研磨单元 研磨抛光 施胶部 精抛 纬线 制备 附着力 经线 磨料 研磨抛光效果 多条经线 研磨 海绵层 上表面 磨具 粘附 复合 消耗 | ||
【主权项】：
1.一种精抛棉，其特征在于：包括依次复合的海绵层、基布层和研磨层，所述基布层靠近研磨层的一侧设有用于增加基布层和研磨层之间的附着力的粘结层，所述研磨层包括树脂基体、粘附于树脂基体上的多个用于研磨抛光的主研磨单元和多个用于协助主研磨单元进行研磨抛光的辅研磨单元，所述基布层由多条经线和多条纬线交织而成，所述经线包括设于纬线上方的多个施胶部，所述粘结层设于施胶部上，所述研磨层设于粘结层上。
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