[发明专利]成膜装置、成膜方法以及电子设备制造方法有效
| 申请号： | 201811562201.5 | 申请日： | 2018-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN110607504B | 公开（公告）日： | 2021-12-07 |
| 发明（设计）人： | 住谷利治;相泽雄树;深泽悠 | 申请（专利权）人： | 佳能特机株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/04;C23C14/50;C23C14/12;C23C14/18;H01L51/56 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 刘日华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的成膜装置用于使蒸镀材料蒸发并蒸镀到旋转的基板的成膜面上，包括配置在与所述基板的成膜面相对的面内的三个以上的蒸发源，所述三个以上的蒸发源分别具有以旋转轴为中心呈放射状配置的多个坩埚，能够以所述旋转轴为旋转中心进行旋转，所述三个以上的蒸发源被配置成所述三个以上的蒸发源中的任意三个蒸发源的各旋转中心在所述面内呈三角形状，所述三个以上的蒸发源各自的所述多个坩埚包括位于蒸镀位置的蒸镀用坩埚、和位于预加热位置的预加热用坩埚，所述三个以上的蒸发源各自的所述蒸镀用坩埚在所述面内配置在从所述基板的旋转中心轴离开同一距离的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 方法 以及 电子设备 制造 | ||
【主权项】：
1.一种成膜装置，使蒸镀材料蒸发并蒸镀到旋转的基板的成膜面上，其特征在于，/n包括配置在与所述基板的成膜面相对的面内的三个以上的蒸发源，/n所述三个以上的蒸发源分别具有以旋转轴为中心呈放射状配置的多个坩埚，能够以所述旋转轴为旋转中心进行旋转，/n所述三个以上的蒸发源被配置成所述三个以上的蒸发源中的任意三个蒸发源的各旋转中心在所述面内呈三角形状，/n所述三个以上的蒸发源各自的所述多个坩埚包括位于蒸镀位置的蒸镀用坩埚、和位于预加热位置的预加热用坩埚，/n所述三个以上的蒸发源各自的所述蒸镀用坩埚在所述面内配置在距所述基板的旋转中心轴相同距离的位置处。/n
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