[发明专利]半导体存储装置在审
申请号: | 201811542208.0 | 申请日: | 2018-12-17 |
公开(公告)号: | CN109979941A | 公开(公告)日: | 2019-07-05 |
发明(设计)人: | 金熙中;李基硕;金俊秀;韩成熙;金奉秀;黄有商 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/108 | 分类号: | H01L27/108 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 张晓;尹淑梅 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 提供了半导体存储装置。半导体存储装置包括:基底;以及堆叠件,包含位于基底上的多个层。所述多个层中的每一个层包括:半导体图案;以及第一导电线,连接到半导体图案中的至少一个半导体图案。第二导电线和第三导电线穿透堆叠件。半导体图案包括在所述多个层中的第一层中彼此相邻并且彼此间隔开的第一半导体图案和第二半导体图案。第三导电线位于第一半导体图案与第二半导体图案之间,并且共同地连接到第一半导体图案和第二半导体图案。 | ||
搜索关键词: | 半导体图案 导电线 半导体存储装置 堆叠件 基底 地连接 第一层 穿透 | ||
【主权项】:
1.一种半导体存储装置,所述半导体存储装置包括:基底;堆叠件,包括竖直地堆叠在基底上的多个层,所述多个层中的每一个层包括:半导体图案,在第一方向上延伸;以及第一导电线,连接到半导体图案中的至少一个半导体图案并在与第一方向交叉的第二方向上延伸;第二导电线和第三导电线,在与第一方向和第二方向垂直的第三方向上延伸,以穿透堆叠件,其中,半导体图案包括:第一半导体图案和第二半导体图案,在所述多个层中的第一层中在第一方向上彼此相邻并彼此间隔开;以及位于所述多个层中的第二层中的第三半导体图案,在第三方向上与第一半导体图案竖直地叠置;以及栅极绝缘层,其中,栅极绝缘层位于第二导电线与第一半导体图案之间以及第二导电线与第三半导体图案之间,并且其中,第三导电线位于第一半导体图案与第二半导体图案之间,并且共同地连接到第一半导体图案和第二半导体图案。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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