[发明专利]光谱仪装置、产生二维光谱的方法和光学部件组有效
| 申请号： | 201811541615.X | 申请日： | 2018-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN110006528B | 公开（公告）日： | 2021-08-31 |
| 发明（设计）人： | 斯特凡·蒙克;米夏埃尔·奥克鲁斯 | 申请（专利权）人： | 耶拿分析仪器有限公司 |
| 主分类号： | G01J3/04 | 分类号： | G01J3/04;G01J3/12 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 穆森;戚传江 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及光谱仪装置、产生二维光谱的方法和光学部件组。光谱仪装置包括：入射‑狭缝组，用于将辐射引入光谱仪装置中并用于限制光谱仪装置的光场；第一色散元件，用于将辐射在主色散方向上进行光谱分解；第二色散元件，用于将辐射在横向色散方向上进行光谱分解，使得能产生二维光谱，横向色散方向与主色散方向形成角度。光谱仪装置的特征在于，入射‑狭缝组包括狭缝轮，狭缝轮围绕旋转轴可旋转地安装，狭缝轮具有至少一个弯月形开口，开口的宽度根据角度而改变，开口的宽度在横向色散方向上延伸，入射‑狭缝组包括狭缝掩模，狭缝掩模具有开口，开口比弯月形开口的最大宽度长，且辐射通过狭缝轮的弯月形开口和狭缝掩模的开口辐射到光谱仪装置中。 | ||
| 搜索关键词： | 光谱仪 装置 产生 二维 光谱 方法 光学 部件 | ||
【主权项】：
1.一种光谱仪装置(10)，包括：‑入射‑狭缝组(13)，所述入射‑狭缝组(13)用于将辐射引入所述光谱仪装置(10)中并且用于限制所述光谱仪装置(10)的光场，‑第一色散元件(31)，所述第一色散元件(31)用于将所述辐射在主色散方向上进行光谱分解，‑第二色散元件(21)，所述第二色散元件(21)用于将所述辐射在横向色散方向上进行光谱分解，使得能产生二维光谱，所述横向色散方向与所述主色散方向形成角度，其特征在于，所述入射‑狭缝组(13)包括狭缝轮(14)，其中，所述狭缝轮(14)围绕旋转轴(15)可旋转地安装，其中，所述狭缝轮(14)具有至少一个弯月形开口(16)，其中，所述开口(16)的宽度(16.min‑16.max)根据所述角度而改变，其中，所述开口(16)的宽度在所述横向色散方向上延伸，其中，所述入射‑狭缝组(13)包括狭缝掩模(20)，其中，所述狭缝掩模(20)具有开口(22)，所述开口(22)比所述弯月形开口(16)的最大宽度(16.max)长，并且其中，辐射通过所述狭缝轮(14)的所述弯月形开口(16)和所述狭缝掩模(20)的所述开口(22)辐射到所述光谱仪装置(10)中。
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