[发明专利]光谱仪装置、产生二维光谱的方法和光学部件组

权利要求书

1.一种光谱仪装置(10)，包括：

-入射-狭缝组(13)，所述入射-狭缝组(13)用于将辐射引入所述光谱仪装置(10)中并且用于限制所述光谱仪装置(10)的光场，

-第一色散元件(31)，所述第一色散元件(31)用于将所述辐射在主色散方向上进行光谱分解，

-第二色散元件(21)，所述第二色散元件(21)用于将所述辐射在横向色散方向上进行光谱分解，使得能产生二维光谱，所述横向色散方向与所述主色散方向形成角度，

其特征在于，

所述入射-狭缝组(13)包括狭缝轮(14)，

其中，所述狭缝轮(14)围绕旋转轴(15)可旋转地安装，

其中，所述狭缝轮(14)具有至少一个弯月形开口(16)，其中，所述弯月形开口(16)的宽度根据所述角度而改变，

其中，所述弯月形开口(16)的宽度在所述横向色散方向上延伸，

其中，所述入射-狭缝组(13)包括狭缝掩模(20)，

其中，所述狭缝掩模(20)具有开口(22)，所述开口(22)比所述弯月形开口(16)的最大宽度长，并且

其中，辐射通过所述狭缝轮(14)的所述弯月形开口(16)和所述狭缝掩模(20)的所述开口(22)辐射到所述光谱仪装置(10)中。

2.根据权利要求1所述的光谱仪装置(10)，

其中，从所述旋转轴(15)到所述弯月形开口的中心轴(M)的距离在旋转角度上是恒定的。

3.根据权利要求1或2所述的光谱仪装置(10)，

其中，所述弯月形开口(16)的宽度在旋转角度上连续地改变。

4.根据权利要求1或2所述的光谱仪装置(10)，

其中，所述弯月形开口(16)的宽度在旋转角度上线性地改变。

5.根据权利要求1或2所述的光谱仪装置(10)，

其中，所述弯月形开口(16)的宽度在旋转角度上从20μm改变到400μm。

6.根据权利要求1或2所述的光谱仪装置(10)，

其中，所述狭缝轮(14)具有可变宽度的多个弯月形开口。

7.根据权利要求1或2所述的光谱仪装置(10)，

其中，所述狭缝掩模(20)是矩形的，并且具有在所述主色散方向上具有恒定宽度的开口。

8.根据权利要求7所述的光谱仪装置(10)，

其中，所述狭缝掩模(20)相对于所述狭缝轮(14)可移动地布置。

9.根据权利要求1或2所述的光谱仪装置(10)，

其中，所述狭缝掩模具有弯月形开口，其中，所述开口的宽度根据所述角度而改变，

其中，所述开口的宽度处于所述主色散方向上。

10.根据权利要求1或2所述的光谱仪装置(10)，

其中，所述狭缝掩模的中心或所述狭缝掩模的弯月形开口的中心轴位于所述狭缝轮的弯月形开口的中心轴上。

11.根据权利要求1或2所述的光谱仪装置(10)，

所述光谱仪装置(10)包括：准直仪(17)，在入射方向上布置在所述入射-狭缝组(13)的下游。

12.根据权利要求11所述的光谱仪装置(10)，

所述准直仪(17)是准直镜。

13.根据权利要求12所述的光谱仪装置(10)，

所述准直镜被设计为抛物面镜或球面镜。

14.根据权利要求11所述的光谱仪装置(10)，

其中，所述光谱仪装置(10)形成利特罗光谱仪。