[发明专利]一种缺陷的钴掺杂二硫化铁多孔中空花状纳米粉体的制备方法及电催化应用有效

专利信息
申请号: 201811512094.5 申请日: 2018-12-11
公开(公告)号: CN109485103B 公开(公告)日: 2021-04-23
发明(设计)人: 孙旭;郭成英;高令峰;马晓晶;匡轩;魏琴 申请(专利权)人: 济南大学
主分类号: C01G49/12 分类号: C01G49/12;C25B1/04;C25B11/077;B82Y30/00
代理公司: 济南誉丰专利代理事务所(普通合伙企业) 37240 代理人: 高强
地址: 250022 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明提供了一种具有缺陷的钴掺杂二硫化铁多孔中空花状纳米粉体的制备方法及电催化应用。首先,制备铁、钴反应液,加热合成无定形钴铁氧体纳米粉体;然后溶剂热法进行硫化反应制得钴掺杂二硫化铁花状纳米粉体;最后,在惰性气体保护下退火处理,得到有缺陷的钴掺杂二硫化铁多孔中空花状纳米粉体。有缺陷的钴掺杂二硫化铁多孔中空花状纳米粉体应用到电催化产氧反应(OER)具有优异的催化性能,过电位低至0.270 V(相对标准氢电极),塔菲尔斜率低至40 mV/dec。
搜索关键词: 一种 缺陷 掺杂 二硫化铁 多孔 中空 纳米 制备 方法 电催化 应用
【主权项】:
1.一种缺陷的钴掺杂二硫化铁多孔中空花状纳米粉体的制备方法,其特征在于,制备步骤如下:(1)配制一定比例的钴、铁预反应液,加热反应一定时间后得到无定形钴铁氧体纳米粉体;(2)硫源化合物与无定形钴铁氧体纳米粉体进行溶剂热反应,一定时间后得到钴掺杂二硫化铁花状纳米粉体;(3)将钴掺杂二硫化铁花状纳米粉体置于管式炉中,一定温度下,在惰性气氛下退火即得到具有缺陷的钴掺杂二硫化铁多孔中空花状纳米粉体。
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