[发明专利]沟槽制作方法

摘要

本发明提供了一种沟槽制作方法，提供一衬底，所述衬底的表面依次形成有介质层、先进图形膜层、防反射涂覆层和具有第一开口的图形化的光阻层；以图形化的光阻层为掩膜，刻蚀防反射涂覆层形成第二开口；以剩余的防反射涂覆层为掩膜，刻蚀所述先进图形膜层形成第三开口，再去除所述剩余的防反射涂覆层；以剩余的先进图形膜层为掩膜，刻蚀所述介质层，形成贯穿所述介质层的沟槽。依次逐层刻蚀，逐层去除上一层的掩模层，逐层变窄，形成高深宽比的沟槽，防止光阻在沟槽底部残留。采用先进图形膜层为掩模对桥接缺陷进行良好的控制，图形转移能力更加可靠与稳定，沟槽的物理形貌得到良好的控制，有效控制刻蚀过程停止和聚合物堆积。