[发明专利]一种测试结构及一种后段金属互连可靠性的测试方法在审
| 申请号: | 201811502538.7 | 申请日: | 2018-12-09 |
| 公开(公告)号: | CN109411383A | 公开(公告)日: | 2019-03-01 |
| 发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 枘熠集成电路(上海)有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;H01L23/544;G01R31/28 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 200120 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明提供了一种基于多晶硅加热的测试结构以及一种金属互连工艺的可靠性测试方法,采用监测电阻温度系数来替代传统后段金属互连可靠性的测试方法,通过采用局部多晶硅加热方式实现了晶圆级测试和实时在线监测,避免了整片晶圆因烘烤而报废,相比传统测试时间缩短了2个数量级时间。最后结合一套优异的数据分析手段实现了线上金属互连可靠性快速异常诊断和监测,有效地增强了制程开发,产品量产,线上监测等工艺流程。 | ||
| 搜索关键词: | 金属互连 测试结构 多晶硅 后段 实时在线监测 数据分析手段 晶圆级测试 可靠性测试 测试 传统测试 个数量级 加热方式 监测电阻 时间缩短 温度系数 线上监测 异常诊断 工艺流程 产品量 有效地 烘烤 晶圆 整片 制程 加热 报废 监测 替代 开发 | ||
【主权项】:
1.一种基于多晶硅加热的测试结构,用于测量电阻温度系数TCR,其特征在于,包括多晶硅加热器,P4为电流流入端,P8为电流流出端,通电后多晶硅发热升温;热电阻,由线宽大于1微米的金属线组成,所述金属线缠绕贴附在多晶硅表面,所述热电阻用来、监测所述多晶硅加热器的温度,所述热电阻的测试结构等同于开尔文四端法电阻,P1为电流流入端,P8为电流流出端,P2和P3为电压监测端;后段BEOL测试结构,紧密贴附在多晶硅加热器上,所述BEOL测试结构采用开尔文四端法接入,P5为电流流入端,P8为电流流出端,P6和P7为电压监测端。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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