[发明专利]一种提高DMD无掩膜光刻图像精度的方法在审
| 申请号： | 201811486749.6 | 申请日： | 2018-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN109491215A | 公开（公告）日： | 2019-03-19 |
| 发明（设计）人： | 张琼;谢俊立;叶慧群;金林枫 | 申请（专利权）人： | 金华飞光科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 苏州创策知识产权代理有限公司 32322 | 代理人： | 董学文 |
| 地址： | 321000 浙江省金华市婺城区龙潭路5*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种提高DMD无掩膜光刻图像精度的方法，其包括：利用DMD直接产生图像，将计算机的图像数据曝光到晶圆或PCB板上；镀膜镜片通过控制镜片沿X轴或Y轴高速旋转一定角度，使DMD反射光通过该倾斜的镜片后折射光平移半个像素，通过四个位置的平移叠加，单个像素演变为4个像数；本发明提高DMD无掩膜光刻图像精度的方法在DMD物理分辨率不变的情况下，只通过光学镜头能够提高图像精度，因而具有性价比高、体积小的特点，其具有很强的技术延伸性和工艺兼容性，满足灵活、高效、低成本的要求，更容易在工业中得到应用，具有广泛的市场前景。 | ||
| 搜索关键词： | 图像 光刻 掩膜 平移 镜片 工艺兼容性 物理分辨率 半个像素 单个像素 镀膜镜片 光学镜头 技术延伸 图像数据 直接产生 低成本 反射光 折射光 晶圆 叠加 曝光 计算机 灵活 应用 | ||
【主权项】：
1.一种提高DMD无掩膜光刻图像精度的方法，其特征在于：包括利用DMD直接产生图像，将计算机的图像数据曝光到晶圆或PCB板上；镀膜镜片通过控制镜片沿X轴或Y轴高速旋转一定角度，使DMD反射光通过该倾斜的镜片后折射光平移半个像素，通过四个位置的平移叠加，单个像素演变为4个像数。
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