[发明专利]一种提高DMD无掩膜光刻图像精度的方法在审
申请号: | 201811486749.6 | 申请日: | 2018-12-06 |
公开(公告)号: | CN109491215A | 公开(公告)日: | 2019-03-19 |
发明(设计)人: | 张琼;谢俊立;叶慧群;金林枫 | 申请(专利权)人: | 金华飞光科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 苏州创策知识产权代理有限公司 32322 | 代理人: | 董学文 |
地址: | 321000 浙江省金华市婺城区龙潭路5*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图像 光刻 掩膜 平移 镜片 工艺兼容性 物理分辨率 半个像素 单个像素 镀膜镜片 光学镜头 技术延伸 图像数据 直接产生 低成本 反射光 折射光 晶圆 叠加 曝光 计算机 灵活 应用 | ||
1.一种提高DMD无掩膜光刻图像精度的方法,其特征在于:包括利用DMD直接产生图像,将计算机的图像数据曝光到晶圆或PCB板上;镀膜镜片通过控制镜片沿X轴或Y轴高速旋转一定角度,使DMD反射光通过该倾斜的镜片后折射光平移半个像素,通过四个位置的平移叠加,单个像素演变为4个像数。
2.根据权利要求1所述的提高DMD无掩膜光刻图像精度的方法,其特征在于:还包括基于DMD的无掩膜光刻技术采用紫外光作为初始光源。
3.根据权利要求1所述的提高DMD无掩膜光刻图像精度的方法,其特征在于:还包括镀膜镜片绕X轴或Y轴转动角度为θ,玻璃的厚度为t,镜片折射率为n,由此可计算出DMD反射光通过该倾斜的镜片后折射光平移距离Δy值为Δ
4.根据权利要求1所述的提高DMD无掩膜光刻图像精度的方法,其特征在于:还包括镀膜镜片材料固定,折射率始终保持不变,折射光的移动距离Δy就由偏转角度θ和镜片的厚度t决定,通过选择合适旋转角度θ和镜片厚度t,就能确保折射光平移距离Δy是DMD最小微镜尺寸的一半。
5.根据权利要求1所述的提高DMD无掩膜光刻图像精度的方法,其特征在于:还包括像素点通过三个方向的平移半个像素后,单个像素点变成A、B、C和D四个像素点,空间上分辨率提高了4倍,图像精度提高了4倍。
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