[发明专利]研磨装置、研磨方法以及计算机可读取记录介质在审

专利信息
申请号: 201811481671.9 申请日: 2018-12-05
公开(公告)号: CN110026883A 公开(公告)日: 2019-07-19
发明(设计)人: 铃木佑多;高桥太郎 申请(专利权)人: 株式会社荏原制作所
主分类号: B24B37/005 分类号: B24B37/005;B24B37/20;B24B37/27;B24B37/34
代理公司: 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 代理人: 肖华
地址: 日本东京都*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种研磨装置、研磨方法以及计算机可读取记录介质。在将顶环保持于摆动臂的端部的研磨方式中,能够提高研磨终点检测的精度。通过研磨台保持研磨垫。通过第一电动机旋转驱动研磨台。通过顶环用电机旋转驱动顶环,该顶环用于保持半导体晶片并且将半导体晶片向研磨垫按压。通过摆动臂保持顶环。通过摆动轴电机使摆动臂绕摆动臂上的摆动中心摆动。检测摆动轴电机的电流值,并生成第一输出。在使半导体晶片绕摆动臂上的摆动中心摆动而对半导体晶片进行研磨时,使第一输出的变化量增加,并对研磨垫与半导体晶片之间的摩擦力的变化进行检测。
搜索关键词: 半导体晶片 摆动臂 顶环 研磨 研磨垫 计算机可读取记录介质 摆动轴电机 摆动中心 研磨装置 研磨台 摆动 按压 研磨终点检测 输出 电机旋转 旋转驱动 电动机 变化量 检测 驱动
【主权项】:
1.一种研磨装置,在研磨垫和被研磨物之间进行研磨,该被研磨物与所述研磨垫相对地配置,该研磨装置的特征在于,包括:研磨台,该研磨台能够保持所述研磨垫;第一电动机,该第一电动机能够旋转驱动所述研磨台;保持部,该保持部能够保持所述被研磨物并且将所述被研磨物向所述研磨垫按压;第二电动机,该第二电动机能够旋转驱动所述保持部;摆动臂,该摆动臂保持所述保持部;第三电动机,该第三电动机能够使所述摆动臂绕所述摆动臂上的摆动中心摆动;检测部,该检测部能够检测所述第一电动机、所述第二电动机以及所述第三电动机中的一个电动机的电流值、及/或所述一个电动机的转矩指令值,并生成第一输出;以及变化检测部,在使所述被研磨物绕所述摆动臂上的摆动中心摆动而对所述被研磨物进行研磨时,该变化检测部能够使所述第一输出的变化量增加,并对所述研磨垫和所述被研磨物之间的摩擦力的变化进行检测。
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