[发明专利]研磨装置、研磨方法以及计算机可读取记录介质在审
| 申请号: | 201811481671.9 | 申请日: | 2018-12-05 |
| 公开(公告)号: | CN110026883A | 公开(公告)日: | 2019-07-19 |
| 发明(设计)人: | 铃木佑多;高桥太郎 | 申请(专利权)人: | 株式会社荏原制作所 |
| 主分类号: | B24B37/005 | 分类号: | B24B37/005;B24B37/20;B24B37/27;B24B37/34 |
| 代理公司: | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人: | 肖华 |
| 地址: | 日本东京都*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 半导体晶片 摆动臂 顶环 研磨 研磨垫 计算机可读取记录介质 摆动轴电机 摆动中心 研磨装置 研磨台 摆动 按压 研磨终点检测 输出 电机旋转 旋转驱动 电动机 变化量 检测 驱动 | ||
1.一种研磨装置,在研磨垫和被研磨物之间进行研磨,该被研磨物与所述研磨垫相对地配置,该研磨装置的特征在于,包括:
研磨台,该研磨台能够保持所述研磨垫;
第一电动机,该第一电动机能够旋转驱动所述研磨台;
保持部,该保持部能够保持所述被研磨物并且将所述被研磨物向所述研磨垫按压;
第二电动机,该第二电动机能够旋转驱动所述保持部;
摆动臂,该摆动臂保持所述保持部;
第三电动机,该第三电动机能够使所述摆动臂绕所述摆动臂上的摆动中心摆动;
检测部,该检测部能够检测所述第一电动机、所述第二电动机以及所述第三电动机中的一个电动机的电流值、及/或所述一个电动机的转矩指令值,并生成第一输出;以及
变化检测部,在使所述被研磨物绕所述摆动臂上的摆动中心摆动而对所述被研磨物进行研磨时,该变化检测部能够使所述第一输出的变化量增加,并对所述研磨垫和所述被研磨物之间的摩擦力的变化进行检测。
2.如权利要求1所述的研磨装置,其特征在于,
所述第一输出能够与所述摆动臂的摆动运动同步。
3.如权利要求1或2所述的研磨装置,其特征在于,
所述第一输出能够与施加到所述摆动臂的所述摆动中心处的臂转矩的变动同步。
4.如权利要求1至3中任一项所述的研磨装置,其特征在于,
所述变化检测部能够通过将所述第一输出乘以常数,从而增加所述第一输出的变化量。
5.如权利要求1至4中任一项所述的研磨装置,其特征在于,
所述变化检测部能够通过使所述第一输出平均化,从而减少所述第一输出中包含的噪声。
6.如权利要求1至5中任一项所述的研磨装置,其特征在于,
具有终点检测部,该终点检测部能够基于检测到的所述摩擦力的变化,检测表示研磨的结束的研磨终点。
7.如权利要求1至6中任一项所述的研磨装置,其特征在于,
所述变化检测部能够通过使所述第一输出增幅,或将与所述第一输出相应的规定值加到所述第一输出上,从而增加所述第一输出的变化量。
8.如权利要求1至7中任一项所述的研磨装置,其特征在于,
所述变化检测部能够求出将所述第一输出平滑化后的量。
9.一种研磨方法,用于在研磨垫和被研磨物之间进行研磨,该被研磨物与所述研磨垫相对地配置,该研磨方法的特征在于,包括如下步骤:
通过研磨台保持所述研磨垫的步骤;
通过第一电动机旋转驱动所述研磨台的步骤;
通过第二电动机旋转驱动保持部的步骤,该保持部用于保持所述被研磨物并且将所述被研磨物向所述研磨垫按压;
通过摆动臂保持所述保持部的步骤;
通过第三电动机使所述摆动臂绕所述摆动臂上的摆动中心摆动的步骤;
检测所述第一电动机、所述第二电动机以及所述第三电动机中的一个电动机的电流值、及/或所述一个电动机的转矩指令值,并生成第一输出的步骤;以及,
在使所述被研磨物绕所述摆动臂上的摆动中心摆动而对所述被研磨物进行研磨时,使所述第一输出的变化量增加,并对所述研磨垫与所述被研磨物之间的摩擦力的变化进行检测的步骤。
10.一种计算机可读取记录介质,其特征在于,
记录有程序,该程序用于使计算机作为变化检测部单元和控制单元发挥作用,
所述计算机用于控制能够对被研磨物进行研磨的研磨装置,该研磨装置具有:第一电动机,该第一电动机能够旋转驱动研磨台,该研磨台保持研磨垫;第二电动机,该第二电动机能够旋转驱动保持部,该保持部能够保持所述被研磨物并且将所述被研磨物向所述研磨垫按压;第三电动机,该第三电动机能够使摆动臂绕所述摆动臂上的摆动中心摆动,该摆动臂保持所述保持部;以及检测部,该检测部能够检测所述第一电动机、所述第二电动机以及所述第三电动机中的一个电动机的电流值、及/或所述一个电动机的转矩指令值,并生成第一输出,
在使所述被研磨物绕所述摆动臂上的摆动中心摆动而对所述被研磨物进行研磨时,所述变化检测部单元能够使所述第一输出的变化量增加,并对所述研磨垫和所述被研磨物之间的摩擦力的变化进行检测,
所述控制单元能够对由所述研磨装置进行的研磨进行控制。
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