[发明专利]一种小口径光学成像级聚酰亚胺薄膜制备方法在审
| 申请号： | 201811464794.1 | 申请日： | 2018-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN109575331A | 公开（公告）日： | 2019-04-05 |
| 发明（设计）人： | 毛丹波;高国涵;杨伟;范斌 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | C08J5/18 | 分类号： | C08J5/18;C08L79/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种小口径光学成像级聚酰亚胺薄膜制备方法，为了提高薄膜厚度均匀性减小波前误差，达到最基本的成像质量要求，通过多次旋涂，直至得到所需厚度的聚酰亚胺薄膜，薄膜透射波前PV≤1/4λ，RMS≤1/30λ，满足基本成像质量要求。本发明有益的技术效果：有望缩小与国外差距，提高薄膜元件制作工艺水平，扩展我国薄膜元件的实际应用领域，特别是透明光学薄膜衍射成像系统领域。 | ||
| 搜索关键词： | 聚酰亚胺薄膜 成像质量要求 薄膜元件 光学成像 制备 薄膜 厚度均匀性 波前误差 光学薄膜 技术效果 系统领域 衍射成像 制作工艺 透射波 减小 旋涂 透明 | ||
【主权项】：
1.一种小口径光学成像级聚酰亚胺薄膜制备方法，其特征在于：通过在石英基片上旋涂一定浓度的聚酰胺酸溶液，依靠离心力将多余的溶液甩离基片本身，并在基片上留下一层薄膜，随后转移到加热板上进行预烘脱除溶剂，最后进行高温亚胺化完成一个循环，重复旋涂‑预烘‑亚胺化步骤，直至得到所需厚度的聚酰亚胺薄膜，薄膜透射波前PV≤1/4λ，RMS≤1/30λ，满足成像质量要求。
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