[发明专利]一种小口径光学成像级聚酰亚胺薄膜制备方法在审
| 申请号： | 201811464794.1 | 申请日： | 2018-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN109575331A | 公开（公告）日： | 2019-04-05 |
| 发明（设计）人： | 毛丹波;高国涵;杨伟;范斌 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | C08J5/18 | 分类号： | C08J5/18;C08L79/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 聚酰亚胺薄膜 成像质量要求 薄膜元件 光学成像 制备 薄膜 厚度均匀性 波前误差 光学薄膜 技术效果 系统领域 衍射成像 制作工艺 透射波 减小 旋涂 透明 | ||
1.一种小口径光学成像级聚酰亚胺薄膜制备方法，其特征在于：通过在石英基片上旋涂一定浓度的聚酰胺酸溶液，依靠离心力将多余的溶液甩离基片本身，并在基片上留下一层薄膜，随后转移到加热板上进行预烘脱除溶剂，最后进行高温亚胺化完成一个循环，重复旋涂-预烘-亚胺化步骤，直至得到所需厚度的聚酰亚胺薄膜，薄膜透射波前PV≤1/4λ，RMS≤1/30λ，满足成像质量要求。
2.根据权利要求1所述的小口径光学成像级聚酰亚胺薄膜制备方法，其特征在于：石英基片尺寸≥Ф100mm。
3.根据权利要求1所述的小口径光学成像级聚酰亚胺薄膜制备方法，其特征在于：聚酰胺酸的固含量为7％～15％。
4.根据权利要求1所述的小口径光学成像级聚酰亚胺薄膜制备方法，其特征在于：采用多次旋涂叠加的方法，直至制备所需厚度的聚酰亚胺薄膜，薄膜厚度≥15μm，薄膜有效口径≥Ф90mm。
5.根据权利要求1～4任一项所述的小口径光学成像级聚酰亚胺薄膜制备方法，其特征在于：所述制备方法具体包括以下步骤：
步骤1：通过真空或机械方式将石英基片固定于吸片台上；
步骤2：制备聚酰胺酸溶液，并控制在一定粘度；
步骤3：将步骤2中的适量溶液流平至步骤1中的石英基片上，静置一段时间至溶液浸润整个石英基片；
步骤4：在合适的转速下旋涂一定时间，依靠离心力将多余的溶液甩离基片本身，并在基片上留下一层薄膜；
步骤5：将步骤4中的湿膜转移到加热板上进行预烘脱除溶剂，直至得到没有流动性的聚酰胺酸凝胶干膜；
步骤6：连同石英基片放进烘箱进行高温热亚胺化处理；
步骤7：如有需要，重复步骤3至步骤6，直至得到所需厚度的聚酰亚胺薄膜；
步骤8：最后将薄膜从基片上剥离下来，得到波前误差小于1/4波长满足成像质量要求的小口径光学成像级聚酰亚胺薄膜。
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