[发明专利]量子点彩膜基板及其制备方法有效
| 申请号： | 201811455682.X | 申请日： | 2018-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN109343267B | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | 杨超群;黄长治 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/13357 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本申请提出了一种量子点彩膜基板及量子点彩膜基板的制备方法。量子点彩膜基板包括：一基板，所述基板包括数个第一子像素区域、数个第二子像素区域、及数个第三子像素区域；其中，所述数个第二子像素区域及所述数个第三子像素区域的材料相同且所述数个第二子像素区域及所述数个第三子像素区域的材料与所述数个第一子像素区域的材料不同。 | ||
| 搜索关键词： | 量子 点彩膜基板 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种量子点彩膜基板，包括：一基板，所述基板包括数个第一子像素区域、数个第二子像素区域、及数个第三子像素区域；其特征在于：所述数个第二子像素区域及所述数个第三子像素区域的材料相同且所述数个第二子像素区域及所述数个第三子像素区域的材料与所述数个第一子像素区域的材料不同。
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